用于顯微鏡的圖像剪切方法是另一個(gè)關(guān)鍵尺寸測量方法。，它的設(shè)備控制允許操作員通過肉眼直接將圖案分成兩個(gè)圖像。，開始測量時(shí)，IRF520N兩個(gè)圖像相互獨(dú)立（見圖14. 17），然后移動(dòng)它們直到完全重合，初始值和終值的差異便是圖形的寬度。像準(zhǔn)線裝置一樣，圖像對裝置也必須經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)方法校正。雖然便宜且方便使用，但這種方法限于大于l¨m的寬度。

   下面關(guān)于掃描電鏡( SEM)檢測儀的描述同樣用于精確的線寬測量。在納米時(shí)代，當(dāng)便用銅金屬化時(shí)，還對r解和控制在孑L洞或表面島區(qū)的截面形狀（3D形狀度量衡學(xué)）產(chǎn)牛興趣（見圖I4. 18）．，可以用成熟的SEM實(shí)現(xiàn)這項(xiàng)任務(wù)，SEM直接將電子束掃過上表面、側(cè)面和底面以重構(gòu)精確的圖形。測量直接在晶圓E進(jìn)行。，一個(gè)缺點(diǎn)是光學(xué)關(guān)鍵尺寸( OCD)8；不能測量孤立的線條。主要目標(biāo)是讓OCD系統(tǒng)直接集成到工藝設(shè)備中，提供實(shí)時(shí)測量和工藝控制（見圖14. 19）。