對一個過程設(shè)計SPC系統(tǒng)
發(fā)布時間:2015/11/12 20:17:12 訪問次數(shù):460
X-R控制圖的價值在于其可預(yù)見性。一個受AD8544AR控的工藝產(chǎn)生的數(shù)據(jù)點趨向于在平均值附近有規(guī)律地變化(見圖15. 17的上部)。關(guān)于一個受控工藝的數(shù)學(xué)計算可以預(yù)計這種規(guī)律性的波動,同時它還可以在數(shù)據(jù)點真正超出控制限之前預(yù)計工藝在什么時候會失控(見圖15. 17的下部)。在右側(cè)部分的數(shù)據(jù)點已經(jīng)偏移到控制范圍的頂部。這對于一個受控的工藝來說是一種非自然的模式。出現(xiàn)這種情況時,維護數(shù)據(jù)圖的生產(chǎn)操作員會向有關(guān)人員發(fā)出警示,這樣可以將工藝在數(shù)據(jù)點超出控制或設(shè)計界限,晶圓將要報廢乏前及時調(diào)整回控制范圍內(nèi)。在工藝中還會用到其他一些更復(fù)雜的控制方法,但這已超出本書的討論范圍。
另一種有力的統(tǒng)計工具是多變量實驗分析。大部分測量的質(zhì)量控制參數(shù)(方塊電阻、線寬、結(jié)深,等等)都受到工藝中多個變量的影響。例如,線寬會隨光刻膠溶劑、膜厚、曝光時間、強度、烘焙溫度,以及刻蝕因素而變化。其中的任何一個因素或所有因素都有可能造成超出規(guī)范的情況。多變量評估可以允許工程師在運行實驗時將每一種單獨的變量識別并分離出來。
對一個過程設(shè)計SPC系統(tǒng)時,要求選擇合適的統(tǒng)計工具。而另一種選擇則圍繞著“指示數(shù)”群體。利潤要求所有批次的所有晶圓上的所有芯片每個都能符合規(guī)范。然而,挑選參數(shù)群體并非總是那么輕而易舉。工芑的情況各有不同,有晶圓上的差異,有一批內(nèi)晶圓之間的差異,還有工藝設(shè)備之間的差異。由于不可能測試每一個芯片,選擇正確的樣本點和采樣水平成為越來越重要的課題[16]。
X-R控制圖的價值在于其可預(yù)見性。一個受AD8544AR控的工藝產(chǎn)生的數(shù)據(jù)點趨向于在平均值附近有規(guī)律地變化(見圖15. 17的上部)。關(guān)于一個受控工藝的數(shù)學(xué)計算可以預(yù)計這種規(guī)律性的波動,同時它還可以在數(shù)據(jù)點真正超出控制限之前預(yù)計工藝在什么時候會失控(見圖15. 17的下部)。在右側(cè)部分的數(shù)據(jù)點已經(jīng)偏移到控制范圍的頂部。這對于一個受控的工藝來說是一種非自然的模式。出現(xiàn)這種情況時,維護數(shù)據(jù)圖的生產(chǎn)操作員會向有關(guān)人員發(fā)出警示,這樣可以將工藝在數(shù)據(jù)點超出控制或設(shè)計界限,晶圓將要報廢乏前及時調(diào)整回控制范圍內(nèi)。在工藝中還會用到其他一些更復(fù)雜的控制方法,但這已超出本書的討論范圍。
另一種有力的統(tǒng)計工具是多變量實驗分析。大部分測量的質(zhì)量控制參數(shù)(方塊電阻、線寬、結(jié)深,等等)都受到工藝中多個變量的影響。例如,線寬會隨光刻膠溶劑、膜厚、曝光時間、強度、烘焙溫度,以及刻蝕因素而變化。其中的任何一個因素或所有因素都有可能造成超出規(guī)范的情況。多變量評估可以允許工程師在運行實驗時將每一種單獨的變量識別并分離出來。
對一個過程設(shè)計SPC系統(tǒng)時,要求選擇合適的統(tǒng)計工具。而另一種選擇則圍繞著“指示數(shù)”群體。利潤要求所有批次的所有晶圓上的所有芯片每個都能符合規(guī)范。然而,挑選參數(shù)群體并非總是那么輕而易舉。工芑的情況各有不同,有晶圓上的差異,有一批內(nèi)晶圓之間的差異,還有工藝設(shè)備之間的差異。由于不可能測試每一個芯片,選擇正確的樣本點和采樣水平成為越來越重要的課題[16]。
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