CGD成像測(cè)量技術(shù)
發(fā)布時(shí)間:2016/2/17 21:15:36 訪問(wèn)次數(shù):561
CCD作為一種新型的光電器件,在精AAT3520IGY-3.08-50-T1密測(cè)量及自動(dòng)檢測(cè)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。與其他光電器件相比,CCD有許多優(yōu)點(diǎn),它體積小,可靠性好,響應(yīng)速度快,動(dòng)態(tài)范圍大,有準(zhǔn)確恒定的光敏元件幾何尺寸和間隔,不需附加機(jī)械結(jié)構(gòu),完全依靠電學(xué)方法完成對(duì)空間信息的采樣轉(zhuǎn)換、存儲(chǔ)和輸出,具有較高的采樣速率。按照光敏元件排列結(jié)構(gòu)的不同,CCD可分為線陣和面陣。線陣CCD可完成一維光強(qiáng)空間分布的探測(cè),而面陣CCD能完成二維全場(chǎng)光強(qiáng)空間分布的探測(cè)。
圖11.24所示為CCD作為光電轉(zhuǎn)換和定量基準(zhǔn),實(shí)現(xiàn)零件外形尺寸非接觸測(cè)量的基本原理。從圖11.24可得被檢零件的影像尺寸,三為CCD器件之間的距離;Ⅳ1、Ⅳ2為CCDi和CCD2的陣列像素;ni、玎2分別為CCDi和CCD2的亮光敏像素;P為光敏單元間隔尺寸。如果系統(tǒng)光學(xué)放大倍數(shù)為屆則零件的外形尺寸,通過(guò)測(cè)量亮光敏元件數(shù)ni和,z2,即可實(shí)現(xiàn)零件一維尺寸D的檢測(cè)。因此,當(dāng)采用面陣CCD作為光電探測(cè)器時(shí),通過(guò)在二維空間測(cè)量亮光敏元件的坐標(biāo)位置,即可實(shí)現(xiàn)被測(cè)零件二維全場(chǎng)形位的檢測(cè)。
CCD用于幾何尺寸測(cè)量的上述二值化處理方法,其測(cè)量分辨率受光敏元間距尸的約束,其單邊測(cè)量分辨率為1個(gè)光敏單元。為了減小這種約束,提高測(cè)量精度,提出了多種提高線陣CCD尺寸分辨率的解調(diào)方法,如菲涅耳直邊衍射法等。
除此之外,CCD被廣泛用于圖像和干涉條紋檢測(cè),精度可達(dá)微米級(jí),可實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)記錄和結(jié)果顯示。
CCD作為一種新型的光電器件,在精AAT3520IGY-3.08-50-T1密測(cè)量及自動(dòng)檢測(cè)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。與其他光電器件相比,CCD有許多優(yōu)點(diǎn),它體積小,可靠性好,響應(yīng)速度快,動(dòng)態(tài)范圍大,有準(zhǔn)確恒定的光敏元件幾何尺寸和間隔,不需附加機(jī)械結(jié)構(gòu),完全依靠電學(xué)方法完成對(duì)空間信息的采樣轉(zhuǎn)換、存儲(chǔ)和輸出,具有較高的采樣速率。按照光敏元件排列結(jié)構(gòu)的不同,CCD可分為線陣和面陣。線陣CCD可完成一維光強(qiáng)空間分布的探測(cè),而面陣CCD能完成二維全場(chǎng)光強(qiáng)空間分布的探測(cè)。
圖11.24所示為CCD作為光電轉(zhuǎn)換和定量基準(zhǔn),實(shí)現(xiàn)零件外形尺寸非接觸測(cè)量的基本原理。從圖11.24可得被檢零件的影像尺寸,三為CCD器件之間的距離;Ⅳ1、Ⅳ2為CCDi和CCD2的陣列像素;ni、玎2分別為CCDi和CCD2的亮光敏像素;P為光敏單元間隔尺寸。如果系統(tǒng)光學(xué)放大倍數(shù)為屆則零件的外形尺寸,通過(guò)測(cè)量亮光敏元件數(shù)ni和,z2,即可實(shí)現(xiàn)零件一維尺寸D的檢測(cè)。因此,當(dāng)采用面陣CCD作為光電探測(cè)器時(shí),通過(guò)在二維空間測(cè)量亮光敏元件的坐標(biāo)位置,即可實(shí)現(xiàn)被測(cè)零件二維全場(chǎng)形位的檢測(cè)。
CCD用于幾何尺寸測(cè)量的上述二值化處理方法,其測(cè)量分辨率受光敏元間距尸的約束,其單邊測(cè)量分辨率為1個(gè)光敏單元。為了減小這種約束,提高測(cè)量精度,提出了多種提高線陣CCD尺寸分辨率的解調(diào)方法,如菲涅耳直邊衍射法等。
除此之外,CCD被廣泛用于圖像和干涉條紋檢測(cè),精度可達(dá)微米級(jí),可實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)記錄和結(jié)果顯示。
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