圖11.23所示是實(shí)驗(yàn)裝置的原理圖。半導(dǎo)體激光器發(fā)出的光，經(jīng)擴(kuò)束、 AAT3520IGY-2.93準(zhǔn)直后經(jīng)過起偏器Pl成為線偏振光，然后由偏振分光鏡PBS分成兩路，透射光經(jīng)過艄波片成為圓偏振光，經(jīng)過法拉第磁光元件( PRG)從被測(cè)導(dǎo)體表面反射回來后再一次經(jīng)過彳／4波片，成為偏振方向相對(duì)透射光旋轉(zhuǎn)了90。的線偏振光。該偏振光在偏振分光鏡處產(chǎn)生反射，經(jīng)檢偏器P2和透鏡組被CCD圖像傳感器接收，缺陷的圖像由計(jì)算機(jī)顯示和處理。實(shí)驗(yàn)裝置中的法拉第晶體安裝在激勵(lì)線圈內(nèi)以提高效率，為了能對(duì)被測(cè)導(dǎo)體內(nèi)感應(yīng)渦流的磁場(chǎng)更敏感，法拉第晶體應(yīng)該無限接近（理論上）被測(cè)導(dǎo)體。該裝置的核心部件一是磁光元件，二是適當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)成像系統(tǒng)，以完成對(duì)缺陷的成像。

   新型磁光渦流成像檢測(cè)裝置綜合利用法拉第磁光效應(yīng)和電渦流效應(yīng)，將缺陷引起的磁場(chǎng)變化轉(zhuǎn)化為激光偏振光偏振面的變化，經(jīng)過檢偏器后再轉(zhuǎn)換為光的強(qiáng)度變化，從而產(chǎn)生了“明”或“暗”的缺陷圖形。并且用激光磁光傳感元件取代了測(cè)量線圈，簡化了傳統(tǒng)渦流檢測(cè)中的信號(hào)處理問題，實(shí)現(xiàn)了對(duì)亞表面細(xì)小缺陷的可視化無損檢測(cè)。

   磁光渦流成像檢測(cè)的深度主要馭決于渦流的滲透深度（與矩形脈沖信號(hào)頻率有關(guān)），檢測(cè)（成像掃描）面積的大小取決于激光光斑的直徑大小。該檢測(cè)技術(shù)特別適用于被檢面積大（如飛機(jī)機(jī)身鋁組件及鋼和鈦合金鋁結(jié)構(gòu)）的表層及亞表層缺陷（如腐蝕靠近鉚釘處的疲勞裂紋）檢測(cè)，可實(shí)現(xiàn)微納米級(jí)的精度測(cè)量。