圖11.23所示是實驗裝置的原理圖。半導體激光器發(fā)出的光，經(jīng)擴束、 AAT3520IGY-2.93準直后經(jīng)過起偏器Pl成為線偏振光，然后由偏振分光鏡PBS分成兩路，透射光經(jīng)過艄波片成為圓偏振光，經(jīng)過法拉第磁光元件( PRG)從被測導體表面反射回來后再一次經(jīng)過彳／4波片，成為偏振方向相對透射光旋轉(zhuǎn)了90。的線偏振光。該偏振光在偏振分光鏡處產(chǎn)生反射，經(jīng)檢偏器P2和透鏡組被CCD圖像傳感器接收，缺陷的圖像由計算機顯示和處理。實驗裝置中的法拉第晶體安裝在激勵線圈內(nèi)以提高效率，為了能對被測導體內(nèi)感應渦流的磁場更敏感，法拉第晶體應該無限接近（理論上）被測導體。該裝置的核心部件一是磁光元件，二是適當?shù)墓鈱W成像系統(tǒng)，以完成對缺陷的成像。

   新型磁光渦流成像檢測裝置綜合利用法拉第磁光效應和電渦流效應，將缺陷引起的磁場變化轉(zhuǎn)化為激光偏振光偏振面的變化，經(jīng)過檢偏器后再轉(zhuǎn)換為光的強度變化，從而產(chǎn)生了“明”或“暗”的缺陷圖形。并且用激光磁光傳感元件取代了測量線圈，簡化了傳統(tǒng)渦流檢測中的信號處理問題，實現(xiàn)了對亞表面細小缺陷的可視化無損檢測。

   磁光渦流成像檢測的深度主要馭決于渦流的滲透深度（與矩形脈沖信號頻率有關(guān)），檢測（成像掃描）面積的大小取決于激光光斑的直徑大小。該檢測技術(shù)特別適用于被檢面積大（如飛機機身鋁組件及鋼和鈦合金鋁結(jié)構(gòu)）的表層及亞表層缺陷（如腐蝕靠近鉚釘處的疲勞裂紋）檢測，可實現(xiàn)微納米級的精度測量。