電子束曝光的特點(diǎn):電子束曝光的精度較高。電子束的斑點(diǎn)可以聚焦得很小,HAT2189WP而且聚焦的景深很深,可用計(jì)算機(jī)控制,精度遠(yuǎn)比肉眼觀察要高。電子束曝光改變光刻圖形十分簡(jiǎn)便,電子束曝光機(jī)是把各次曝光圖形用計(jì)算機(jī)設(shè)計(jì),改變圖形只要重新編程即可。電子束曝光雖然不需要掩膜版,但電子束曝光設(shè)各復(fù)雜,成本較高。

   直接分步重復(fù)曝光有3個(gè)獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn):(1)它是通過(guò)縮小投影系統(tǒng)成像的,因而可以提高分辨率,用這種方法曝光,分辨率可達(dá)到1~1.5um;(2)不需要1∶1的精縮掩膜,因而掩膜尺寸大,制作方便,由于使用了縮小透鏡,原版上的塵埃、缺陷也相應(yīng)地縮小,因而減小了原版缺陷的影響;(3)由于采用了逐步對(duì)準(zhǔn)技術(shù)可補(bǔ)償硅片尺寸的變化,提高了對(duì)準(zhǔn)精度,制造投影掩膜版更容易。逐步對(duì)準(zhǔn)的方法也可以降低對(duì)硅片表面平整度的要求。

   深紫外光大致定義為180~33Onm間的光譜能量。它進(jìn)一步分為3個(gè)光帶:200^ˇ260nⅡb 260-285nΠb 285'ˇ315nm。