離子濺射鍍膜法
發(fā)布時(shí)間:2016/10/21 18:32:08 訪問次數(shù):871
在低真空(0.1~0.01乇①)狀態(tài)下,在陽極與陰極兩個(gè)電極之間加上幾百伏至上千伏的直流電壓時(shí),OMAPL138BZWTD4電極之間會產(chǎn)生輝光放電。在放電的過程中,氣體分子被電離成帶正電的陽離子和帶負(fù)電的電子,在電場的作用下,陽離子被加速跑向陰極,而電子被加速跑向陽極。如果陰極用金屬作為電極(常稱靶極),那么在陽離子沖擊其表面時(shí),就會將其表面的金屬粒子打出,這種現(xiàn)象稱為濺射。
此時(shí)被濺射的金屬粒子是中性,即不受電場的作用,而靠重力作用下落。如果將樣品置于下面,被濺射的金屬粒子就會落到樣品表面,形成一層金屬膜,用這種方法給樣品表面鍍膜,稱為離子濺射鍍膜法。
特點(diǎn):
(1)低電壓冷濺射。
(2)全自動操作,可控制獨(dú)立的真空泵。
(3)可預(yù)設(shè)沉積厚度,均勻厚度沉積,全自動控制,膜厚度重復(fù)性好。
在低真空(0.1~0.01乇①)狀態(tài)下,在陽極與陰極兩個(gè)電極之間加上幾百伏至上千伏的直流電壓時(shí),OMAPL138BZWTD4電極之間會產(chǎn)生輝光放電。在放電的過程中,氣體分子被電離成帶正電的陽離子和帶負(fù)電的電子,在電場的作用下,陽離子被加速跑向陰極,而電子被加速跑向陽極。如果陰極用金屬作為電極(常稱靶極),那么在陽離子沖擊其表面時(shí),就會將其表面的金屬粒子打出,這種現(xiàn)象稱為濺射。
此時(shí)被濺射的金屬粒子是中性,即不受電場的作用,而靠重力作用下落。如果將樣品置于下面,被濺射的金屬粒子就會落到樣品表面,形成一層金屬膜,用這種方法給樣品表面鍍膜,稱為離子濺射鍍膜法。
特點(diǎn):
(1)低電壓冷濺射。
(2)全自動操作,可控制獨(dú)立的真空泵。
(3)可預(yù)設(shè)沉積厚度,均勻厚度沉積,全自動控制,膜厚度重復(fù)性好。
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