金屬電極仍要在真空腔中進行蒸鍍。金屬電E2458NL極通常使用低功函數(shù)的活潑金屬,因此在有機材料薄膜蒸鍍完成后進行蒸鍍。常用的金屬電極有Mg/Ag、Mg∶Ag從g、Li/Al、ⅡF/Al等。用于金屬電極蒸鍍的舟通常采用鉬、鉭和鎢等材料制作,以便用于不同的金屬電極蒸鍍(主要是防止舟金屬與蒸鍍金屬起化學反應)。金屬電極材料的蒸發(fā)一般用加熱電流來表示,在我們的真空蒸鍍設備上進行蒸鍍實驗,實驗結(jié)果表明,金屬電極材料的蒸發(fā)加熱電流一般在70A~100A之間(個別金屬要超過100A)、ITO樣品基底溫度在80℃左右、蒸發(fā)速度在約0,5nm~5nn√S、蒸發(fā)腔的真空度在7×10叫Pa~5×10“Pa時蒸鍍的效果較佳。

   器件封裝工藝

   oLED器件的有機薄膜及金屬薄膜遇水和空氣后會立即氧化,使器件性能迅速下降,因此在封裝前絕不能與空氣和水接觸。因此,oLED的封裝工藝一定要在無水無氧的、通有惰性氣體(如氬氣)的手套箱中進行。封裝材料包括黏合劑和覆蓋材料。黏合劑使用紫外固化的環(huán)氧固化劑,覆蓋材料則采用玻璃封蓋,在封蓋內(nèi)加裝干燥劑來吸附殘留的水分。