與注入離子劑量率之間的關(guān)系
發(fā)布時間:2017/5/16 21:18:14 訪問次數(shù):770
與注入離子劑量率之間的關(guān)系
劑量率是指單位時間,通過單位面積注人的離子數(shù)。注人劑量一定時,M65831AP劑量率越大,注入時間就越短。一般來說,隨著劑量率的增加,形成非晶層所需要的臨界劑量將減小。
與晶體取向的關(guān)系
離子是沿靶材料的某一晶向人射,還是隨機入射,對于形成非晶層所需要的臨界劑量是不相同的。實驗證明,在一定條件下,沿某一晶向人射形成非晶層所需要的臨界劑量高于隨機入射。
與注入速率的關(guān)系
注人速率一般以單位面積內(nèi)注人的電流來度量,單位為uA/c耐,也顯著地影響非晶層的形成。注人速率增加時缺陷的產(chǎn)生率增加,有利于非晶層的形成,故臨界劑量隨之降低。
與注入離子劑量率之間的關(guān)系
劑量率是指單位時間,通過單位面積注人的離子數(shù)。注人劑量一定時,M65831AP劑量率越大,注入時間就越短。一般來說,隨著劑量率的增加,形成非晶層所需要的臨界劑量將減小。
與晶體取向的關(guān)系
離子是沿靶材料的某一晶向人射,還是隨機入射,對于形成非晶層所需要的臨界劑量是不相同的。實驗證明,在一定條件下,沿某一晶向人射形成非晶層所需要的臨界劑量高于隨機入射。
與注入速率的關(guān)系
注人速率一般以單位面積內(nèi)注人的電流來度量,單位為uA/c耐,也顯著地影響非晶層的形成。注人速率增加時缺陷的產(chǎn)生率增加,有利于非晶層的形成,故臨界劑量隨之降低。
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