常壓下,鋁熔點為660.4℃,沸點為2467℃,在1250℃時的平衡蒸氣壓為1,333Pa,所以1250℃是I程上規(guī)定的蒸發(fā)溫度,這一溫度并不高,PM7350-PI所以長期以來鋁膜都是使用電阻加熱方法淀積的。

   鋁源在蒸發(fā)過程中是先熔化,再汽化揮發(fā)。熔融鋁能浸潤鎢絲,因此可以采用鎢絲作為鍍鋁的電阻加熱器。常用的鎢絲加熱器的形狀和鋁絲源的擺放方式如圖⒌32所示。

    蒸發(fā)源鋁絲的純度應(yīng)在5N以上。襯底溫度約150℃。鋁絲表面在常溫常壓環(huán)境會有一層致密的氧化層(川20),應(yīng)預(yù)蒸發(fā)數(shù)秒待氧化層揮發(fā)完畢之后,再打開擋板淀積鋁膜;鎢絲加熱器在熔融鋁全部蒸發(fā)完的瞬間高溫下與鋁生成四鋁化鎢,為避免將其淀積在鋁膜上,應(yīng)在熔融鋁全部蒸發(fā)完之前的就關(guān)斷擋板。加熱器鎢絲的純度也對所鍍鋁膜的純度帶來影響,鎢絲中通常含有痕量的鈉。淀積1um厚的鋁膜,耗源約1g,淀積速率約0.8um/min。

   電阻真空鍍鋁工藝方法簡單,容易操作,但是鍍膜純凈度不高,襯底附著性和臺階覆蓋特性也較差,目前只是在對鋁膜質(zhì)量要求不高的場合使用。