掩模板就是將設(shè)計(jì)好的特定幾何圖形通過一定的方法以一定的間距和布局做在基板上,供光刻HAT3037R-EL-E工藝中重復(fù)使用。制造商將設(shè)計(jì)工程師交付的標(biāo)準(zhǔn)制版數(shù)據(jù)傳送給一個(gè)稱為圖形發(fā)生器的設(shè)備,圖形發(fā)生器會(huì)根據(jù)該數(shù)據(jù)完成圖形的產(chǎn)生和重復(fù),并將版圖數(shù)據(jù)分層轉(zhuǎn)移到各層光刻掩模板(為涂有感光材料的優(yōu)質(zhì)玻璃板)上,這就是制版。每層版圖對(duì)應(yīng)于不同的光刻掩模板,并對(duì)應(yīng)于不同的工藝步驟。實(shí)際光刻版的照片如圖101所示。

   光刻掩模板質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響光刻圖形的質(zhì)量。在芯片制造過程中需要經(jīng)過十幾乃至幾十次的光刻,每次光刻都需要一塊光刻掩模板,每塊光刻掩模板的質(zhì)量都會(huì)影響光刻的質(zhì)量。因此要有高的成品率,就必須制作出高質(zhì)量的光刻掩模板。

   結(jié)構(gòu)簡單的微電子器件,一般可以采用手工方法和光學(xué)照相技術(shù)制版。隨著超大規(guī)模集成電路線條尺寸的不斷縮小以及結(jié)構(gòu)的日益復(fù)雜,集成電路等復(fù)雜結(jié)構(gòu)的掩模板都采用自動(dòng)方式和電子束技術(shù)進(jìn)行制版。