以鉻版為例,掩模板的基本構(gòu)造如圖105所示,其材質(zhì)依據(jù)不同的使用需求,可選擇不同的玻璃基片。 A2003G目前隨著工藝技術(shù)的精進(jìn),以具有低熱膨脹系數(shù)、低鈉含量、高化學(xué)穩(wěn)定性及高光穿透性等特質(zhì)的石英玻璃為主流,在其上鍍有約100nm的不透光鉻膜作為I作層及約20nm的氧化鉻來減少光反射,增加工藝的穩(wěn)定性。掩模板之所以可作為圖形轉(zhuǎn)移的一種模板,關(guān)鍵就在于有無鉻膜的存在,有鉻膜的地方,光線不能穿透,反之,則光可透過石英玻璃而照射在涂有光刻膠的晶片上,晶片再經(jīng)過顯影,就能產(chǎn)生不同的圖形。也正是由于掩模板可用于大量的圖形轉(zhuǎn)移,所以掩模板上的缺陷密度將直接影響產(chǎn)品的優(yōu)品率。如果假設(shè)缺'點(diǎn)的分布是隨機(jī)的,則優(yōu)品率的表達(dá)式為,DO為單位面積的缺點(diǎn)數(shù);A為掩模板圓形面積;″為重要掩模板層數(shù)。

    掩模板上的缺陷一般來自兩個(gè)方面:一是掩模板圖形本身的缺陷,大致包括針孔、黑點(diǎn)、黑區(qū)突出、白區(qū)突出、邊緣不均及刮傷等,此部分皆為制作過程中出現(xiàn)的,目前是利用目檢或機(jī)器原形比等 方式來篩選;二是指附著在掩模板上的外來物,為解決此問題,通常在掩模板上裝一層保護(hù)膜,當(dāng)外來物掉落在保護(hù)膜上時(shí),因保護(hù)膜上物體的聚焦平面與掩模板圖形的聚焦平面不同,因此可使小的外來 物不能聚焦在晶片上,而不產(chǎn)生影響,如圖106所示是掩模板保護(hù)膜功能示意圖。