然而,HARP工藝的填充能力不僅受沉積中03/TEC)S比值的影響,更受到溝槽輪廓的強(qiáng)烈影響。K4D263238G-GC33以STI為例,SACVD沉積的保形性很高,所以HARP工藝主要采用坡度≤86°的V形溝槽形貌,保證STI溝槽的上端處于開口狀態(tài),以完成自底向上的填充(見圖4.21)。

   V形STI可以很容易獲得良好的HARP填充效果。而U形的或凹角溝槽形貌會(huì)導(dǎo)致在 STI被HARP薄膜填滿之前,STI溝槽的上端邊角早就被堵塞了,結(jié)果就會(huì)在溝槽內(nèi)部形成鎖眼或裂縫。在處理U形或凹角STI形貌時(shí)-不存在一種能夠克服填充問題的簡便方 法。很難通過HARP工藝的一些改進(jìn)來減輕U形或凹角溝槽形貌中的鎖眼(keyh。le)。