圖7,32 常用的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正模型建立所用的定標(biāo)圖形以及線寬測量位置優(yōu)化抗反射層的厚度。S9S08SG8E2MTJR由于光刻膠同襯底的折射率(″和花值)的差異,一部分照明光會(huì)從光刻膠和襯底的界面被反射回來,造成對(duì)入射成像光的干擾。這種干擾嚴(yán)重時(shí)甚至會(huì)產(chǎn)生駐波效應(yīng),如圖7.33(c)所示。圖7.33(c)中顯示的是J線365n或者248nm光刻膠斷面圖,因?yàn)轳v波中波峰到波峰之間的距離為半個(gè)波長,而光刻膠的折射率″一般為1.6~1.7左右,根據(jù)波峰的個(gè)數(shù)(~10),可以推斷光刻膠的厚度大約為0.7~1.2um左右。

   而193nm的光刻膠厚度通常小于300nm。消除光刻膠底部的反射光一般采用底部抗反射層(Bottom Ant卜reflecti°n Coating,BARC),如圖7.34(a)所示。在圖7.34(a)中,加人底部抗反射層后增加了一個(gè)界面�？梢酝ㄟ^調(diào)節(jié)抗反射層的厚度來調(diào)節(jié)抗反射層與襯底之間反射光的相位,以抵消光刻膠和抗反射層之間的反射光,起到消除光刻膠底部反射光的作用。對(duì)于抗反射層,如果要在1/4波長的厚度附近做到嚴(yán)格的抗反射,需要精確地調(diào)節(jié)抗反射層的折射率″,使得它介于襯底的″襯底和″光刻膠之間.