最近,由于線寬均勻性要求越來越高,對于抗反射層的調(diào)節(jié)要求也越來越高。顧一鳴SB2020P46502AR和他的同事們報道了詳細的研究E23]。~般情況下,抗反射層的折射率只能夠做到接近理想值。人們在抗反射層加入一些吸收紫外光的成分,以減少反射光。光刻膠底部反射率隨抗反射層的厚度變化一般會經(jīng)歷幾個波峰和波谷,如圖7.34(b)所示。由圖可見,在第二極小點的波動明顯比在第一極小點的波動小很多,這是因為抗反射層對光的吸收對多次反射的抑制。如果刻蝕允許,抗反射層的厚度可以選在第二極小,因為,反射率對抗反射層的厚度不敏感,有利于工藝控制。單層底部抗反射層可以將反射率控制在2%以下。到了65nm以下的節(jié)點,如45nm和32nm,單層抗反射層已經(jīng)不能滿足工藝的要求,于是就產(chǎn)生了雙層抗反射層。

   雙層抗反射層可以進一步減小反射率到0,2%以下。選定合適的抗反射層以及合適的厚度,有利于大幅減少光刻膠底部的反射,提高成像對比度,從而提高線寬均勻性。除了加入抗反射層,增加光敏劑的擴散也可以有效地減少駐波效應,不過這種方法是以犧牲像對比度為代價的。