網(wǎng)格套刻中的4個(gè)線性參量及其表現(xiàn)
發(fā)布時(shí)間:2017/10/28 10:16:24 訪問(wèn)次數(shù):1722
平臺(tái),在X和Y方向的步進(jìn)是通過(guò)X和Y方向上的干涉計(jì)來(lái)控制的,步進(jìn)的長(zhǎng)度也存在誤差;而且,由于掃描,沿著Y方向上的運(yùn)動(dòng)不一定垂直于橫向方向X。于是,便引入了另外兩個(gè)參量:非對(duì)稱(chēng)放大率(assymetⅡc magni伍cation)和正交(orthogonality)。因?yàn)閽呙枋焦?/span>刻機(jī)的Y方向上的放大率是由掩膜版和硅片的相對(duì)掃描速度決定的。正常狀態(tài)下,掩膜版的掃描速度是硅片的4倍。如果掩膜版的掃描速度快一點(diǎn),則在硅片平臺(tái)未完成掃描時(shí)掩膜版的掃描已經(jīng)結(jié)束了,那么,圖形的Y方向的放大率會(huì)變小。而且,如果在掃描時(shí)硅片平臺(tái)存在橫向(X)的勻速漂移,那么掃描出來(lái)的圖形將不再正方,y軸同X軸的來(lái)角將不是90°,也就是說(shuō),正交性不再存在。那么放大率將被分為X,y:Mx,M⒈旋轉(zhuǎn)量也可被分為X,Y:Rx dY。于是式(729)將可以被寫(xiě)成: 由于式(730)含有6個(gè)參量,叉被叫做6參量模型。
前面討論了套刻的6個(gè)線性參量。其實(shí),在生產(chǎn)控制中將套刻分為網(wǎng)格(gh-)和曝光區(qū)(shot)。網(wǎng)格套刻(grid o跎day)是由光刻機(jī)硅平臺(tái)的精確移動(dòng)來(lái)決定的;而曝光區(qū)的套刻是由掩膜版本身的控制精度以及鏡頭放大率和像差控制來(lái)決定的。網(wǎng)格套刻的4個(gè)參量及其在硅片套刻上的表現(xiàn)如圖7.42所示。
平臺(tái),在X和Y方向的步進(jìn)是通過(guò)X和Y方向上的干涉計(jì)來(lái)控制的,步進(jìn)的長(zhǎng)度也存在誤差;而且,由于掃描,沿著Y方向上的運(yùn)動(dòng)不一定垂直于橫向方向X。于是,便引入了另外兩個(gè)參量:非對(duì)稱(chēng)放大率(assymetⅡc magni伍cation)和正交(orthogonality)。因?yàn)閽呙枋焦?/span>刻機(jī)的Y方向上的放大率是由掩膜版和硅片的相對(duì)掃描速度決定的。正常狀態(tài)下,掩膜版的掃描速度是硅片的4倍。如果掩膜版的掃描速度快一點(diǎn),則在硅片平臺(tái)未完成掃描時(shí)掩膜版的掃描已經(jīng)結(jié)束了,那么,圖形的Y方向的放大率會(huì)變小。而且,如果在掃描時(shí)硅片平臺(tái)存在橫向(X)的勻速漂移,那么掃描出來(lái)的圖形將不再正方,y軸同X軸的來(lái)角將不是90°,也就是說(shuō),正交性不再存在。那么放大率將被分為X,y:Mx,M⒈旋轉(zhuǎn)量也可被分為X,Y:Rx dY。于是式(729)將可以被寫(xiě)成: 由于式(730)含有6個(gè)參量,叉被叫做6參量模型。
前面討論了套刻的6個(gè)線性參量。其實(shí),在生產(chǎn)控制中將套刻分為網(wǎng)格(gh-)和曝光區(qū)(shot)。網(wǎng)格套刻(grid o跎day)是由光刻機(jī)硅平臺(tái)的精確移動(dòng)來(lái)決定的;而曝光區(qū)的套刻是由掩膜版本身的控制精度以及鏡頭放大率和像差控制來(lái)決定的。網(wǎng)格套刻的4個(gè)參量及其在硅片套刻上的表現(xiàn)如圖7.42所示。
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