HCF40109BE

   通過紫外光電子能譜tUP9對(duì)AVⅡF/Alqs及Al/A‰界面電子結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析發(fā)現(xiàn),A礫的HOMo能級(jí)及真空能級(jí)的漂移是由ⅡF所致。在Al/Alq3和Al/LJ界面所測(cè)得的偶極分別為1.0eV、1.6eV,表明Lr內(nèi)嵌于Alq3與Al之間,可以降低Al到Alq3的電子注人勢(shì)壘。根據(jù)UPS對(duì)界面偶極分析結(jié)果,解釋電子注人勢(shì)壘降低的原因如圖5.19(a)所示,由于Alq3與Al之間大小為I.0eV的電偶極的形成,使電子注入勢(shì)壘由不形成偶極時(shí)的1.5eV降低到0.5eV,當(dāng)內(nèi)嵌ⅡF后,如圖5,19(b)所示,界面偶極增大為1,6eV,因此電子的注人勢(shì)壘為硐,1eV,即電子注人是能量有利方向,不存在注人勢(shì)壘。

   水分子的存在,可降低鋁功函數(shù)

   研究發(fā)現(xiàn),鋁的功函數(shù)會(huì)隨著少量hF而戲劇化地下降。一種解釋認(rèn)為,在熱蒸發(fā)過程中,水分子的存在使ⅡF解離,并在界面形成LiˉAl合金。另一種解釋認(rèn)為,由于水分子在Lf分子上的化學(xué)吸附,Al/LJ之間的界面形成大量偶極所致。但是最近的高分辨能量損失譜指出,在LJ/Al之間的界面不存在水分子,也沒有LiF在鋁界面的解離。LF在A蠔、ⅡF及Al共存下解離,是熱力學(xué)可行的反應(yīng)通過XPS、理論計(jì)算等研究,一些學(xué)者認(rèn)為LF在Alq3、Al及LJ共同存在情況下發(fā)生解離,再與A‰反應(yīng)生成Alq3自由基陰離子。由于總反應(yīng)的生成自由能近似為零,反應(yīng)是熱力學(xué)可行的。