GaN技術(shù)單片整合功率級(jí)以及驅(qū)動(dòng)和保護(hù)電路
發(fā)布時(shí)間:2021/5/16 8:30:48 訪問(wèn)次數(shù):938
在智能功率技術(shù)、寬帶隙半導(dǎo)體材料和封裝技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)和創(chuàng)新成果,STi2GaN系列采用GaN技術(shù)單片整合功率級(jí)以及驅(qū)動(dòng)和保護(hù)電路,并通過(guò)系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)解決方案增加了數(shù)據(jù)處理和控制電路,滿足市場(chǎng)對(duì)特殊用途專用芯片的需求。
STi2GaN解決方案采用意法半導(dǎo)體的新型無(wú)引線封裝技術(shù),提高了芯片的穩(wěn)定性、可靠性和性能。
STi2GaN延續(xù)了ST長(zhǎng)期以來(lái)在復(fù)合材料和智能功率產(chǎn)品創(chuàng)新方面的成功經(jīng)驗(yàn),主要應(yīng)用包括汽車以及需要高密度、高可靠性和高功率的電源。
eGaN FET可以在250 kHz的開關(guān)頻率下實(shí)現(xiàn)97%的效率,可實(shí)現(xiàn)每相800 W,而硅基解決方案只能實(shí)現(xiàn)每相600 W,因?yàn)楹笳咴?00 kHz的最大開關(guān)頻率下,電感電流受限。
通過(guò)使用氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管,有可能將3.5 kW轉(zhuǎn)換器的相數(shù)從五相減到四相,并同時(shí)提高效率。
工作在250 kHz頻率下的四相氮化鎵基轉(zhuǎn)換器的效率,比工作在100 kHz的五相硅MOSFET轉(zhuǎn)換器高出1.5%。
氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管展示卓越的可靠性,是這種要求非常高的應(yīng)用的理想器件。
(素材來(lái)源:ttic和eccn.如涉版權(quán)請(qǐng)聯(lián)系刪除。特別感謝)
在智能功率技術(shù)、寬帶隙半導(dǎo)體材料和封裝技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)和創(chuàng)新成果,STi2GaN系列采用GaN技術(shù)單片整合功率級(jí)以及驅(qū)動(dòng)和保護(hù)電路,并通過(guò)系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)解決方案增加了數(shù)據(jù)處理和控制電路,滿足市場(chǎng)對(duì)特殊用途專用芯片的需求。
STi2GaN解決方案采用意法半導(dǎo)體的新型無(wú)引線封裝技術(shù),提高了芯片的穩(wěn)定性、可靠性和性能。
STi2GaN延續(xù)了ST長(zhǎng)期以來(lái)在復(fù)合材料和智能功率產(chǎn)品創(chuàng)新方面的成功經(jīng)驗(yàn),主要應(yīng)用包括汽車以及需要高密度、高可靠性和高功率的電源。
eGaN FET可以在250 kHz的開關(guān)頻率下實(shí)現(xiàn)97%的效率,可實(shí)現(xiàn)每相800 W,而硅基解決方案只能實(shí)現(xiàn)每相600 W,因?yàn)楹笳咴?00 kHz的最大開關(guān)頻率下,電感電流受限。
通過(guò)使用氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管,有可能將3.5 kW轉(zhuǎn)換器的相數(shù)從五相減到四相,并同時(shí)提高效率。
工作在250 kHz頻率下的四相氮化鎵基轉(zhuǎn)換器的效率,比工作在100 kHz的五相硅MOSFET轉(zhuǎn)換器高出1.5%。
氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管展示卓越的可靠性,是這種要求非常高的應(yīng)用的理想器件。
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