5個EUV光刻層替換15個光學(xué)光刻層從而減少了周期時間
發(fā)布時間:2024/2/21 19:33:49 訪問次數(shù):75
將EUV引入第二代7nm工藝的可能性,其極紫外光光刻機(extreme ultraviolet lithography: ,簡稱EUV光刻機)產(chǎn)能已經(jīng)取得了較大的進步,目前已經(jīng)將其電源功率提高到160W,助力7nm和5nm制造,而250瓦EUV也已經(jīng)安裝到位。
7c比較容易實現(xiàn),不會造成面積縮小,所以不需要重新設(shè)計,7c中使用5個EUV光刻層替換15個光學(xué)光刻層,從而減少了周期時間,EPE和來改善循環(huán)時間,EPE和電氣分布特性也得到了改善。
高吞吐能力的EUV工具-在某種程度上,確定的功耗和吞吐量是不變的。ASML的機器有多個旋鈕可以調(diào)整吞吐能力,他們現(xiàn)在正在盡最大努力提高吞吐能力和機器運行時間。他們現(xiàn)在出貨的NXE3400b應(yīng)該滿足這個要求。
當(dāng)人體觸及漏電的電氣設(shè)各的外殼時,因金屬外殼已與大地作良好的連接.其接地電阻較之人體電阻小很多(在低壓系統(tǒng)中,當(dāng)電源容量小于100kV・A時,接地電阻不應(yīng)超過10Ω;當(dāng)電源容量大于100kV・A時,接地電阻不應(yīng)超過4Ω),則漏電電流幾乎全部流經(jīng)接地線,從而保證了人身安全。
在接地系統(tǒng)中,采用保護接地是不能起到防護作用的,必須采用保護接零,此時所構(gòu)成的系統(tǒng)稱為TN系統(tǒng)(T表示電網(wǎng)中性點直接接地,N表示電氣設(shè)各的金屬外殼接零線)。
基于電磁感應(yīng)原理的電流鉗與互感器一樣,鐵芯被分成兩部分,閉合時兩部分鐵芯需要緊密結(jié)合,有些電流鉗次級連接了電阻輸出為電壓信號,沒有內(nèi)部電阻的輸出為電流信號,這也是為什么有些廠家同一個型號的電流鉗有電流和電壓輸出兩種類型,最典型的就是法國CA的C117和C116。
受到兩部分鐵芯閉合程度的影響,電流鉗精度通常比互感器差一些。同樣地基于電磁感應(yīng)的電流鉗也只能測量交流。
將EUV引入第二代7nm工藝的可能性,其極紫外光光刻機(extreme ultraviolet lithography: ,簡稱EUV光刻機)產(chǎn)能已經(jīng)取得了較大的進步,目前已經(jīng)將其電源功率提高到160W,助力7nm和5nm制造,而250瓦EUV也已經(jīng)安裝到位。
7c比較容易實現(xiàn),不會造成面積縮小,所以不需要重新設(shè)計,7c中使用5個EUV光刻層替換15個光學(xué)光刻層,從而減少了周期時間,EPE和來改善循環(huán)時間,EPE和電氣分布特性也得到了改善。
高吞吐能力的EUV工具-在某種程度上,確定的功耗和吞吐量是不變的。ASML的機器有多個旋鈕可以調(diào)整吞吐能力,他們現(xiàn)在正在盡最大努力提高吞吐能力和機器運行時間。他們現(xiàn)在出貨的NXE3400b應(yīng)該滿足這個要求。
當(dāng)人體觸及漏電的電氣設(shè)各的外殼時,因金屬外殼已與大地作良好的連接.其接地電阻較之人體電阻小很多(在低壓系統(tǒng)中,當(dāng)電源容量小于100kV・A時,接地電阻不應(yīng)超過10Ω;當(dāng)電源容量大于100kV・A時,接地電阻不應(yīng)超過4Ω),則漏電電流幾乎全部流經(jīng)接地線,從而保證了人身安全。
在接地系統(tǒng)中,采用保護接地是不能起到防護作用的,必須采用保護接零,此時所構(gòu)成的系統(tǒng)稱為TN系統(tǒng)(T表示電網(wǎng)中性點直接接地,N表示電氣設(shè)各的金屬外殼接零線)。
基于電磁感應(yīng)原理的電流鉗與互感器一樣,鐵芯被分成兩部分,閉合時兩部分鐵芯需要緊密結(jié)合,有些電流鉗次級連接了電阻輸出為電壓信號,沒有內(nèi)部電阻的輸出為電流信號,這也是為什么有些廠家同一個型號的電流鉗有電流和電壓輸出兩種類型,最典型的就是法國CA的C117和C116。
受到兩部分鐵芯閉合程度的影響,電流鉗精度通常比互感器差一些。同樣地基于電磁感應(yīng)的電流鉗也只能測量交流。
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