新聞提要：

        最近，臺灣的TSMC發(fā)表其完成65奈米制程的試驗生產(chǎn)（prototype run），參與試產(chǎn)的公司包括Altera、Broadcom、及 Freescale，而無獨有偶，中國的SMIC亦于同日發(fā)表將和美國Luminescent Technologies, Inc.公司合作開發(fā)65奈米的微影制程技術，因此，雙方的65奈米制程競賽開始展開。

        新聞來源：Semiconductor Times

        TRI觀點：

        一.新的光罩圖案軟件技術不得忽視

        Luminescent Technologies, Inc.公司成立于2002年，其資金是來自一家創(chuàng)投公司Sevin Rosen Funds，而其CEO是出身Applied Materials的高階主管，CTO是美國加州理工學院（Caltech）的研究科學家，專攻軟件技術，此外，在負責業(yè)的VP中，有一位曾擔任TSMC的某業(yè)務部門主管。Luminescent Technologies, Inc.公司的光罩圖案軟件技術稱為「反轉(zhuǎn)式微影技術（Inverse Lithography Technology或簡稱ILT）」， 而其技術重點在于，針對所期望在晶圓上出現(xiàn)的組件圖案，以軟件技術直接算出形成該圖案所需要的光罩圖案，而現(xiàn)有光罩圖案制作技術必須等到于晶圓上形成圖形后，才能進一步據(jù)此改善光罩上的圖案。

        在2005年10月份的「Photomask Technology 2005」研討會中，Luminescent Technologies, Inc.公司除此本身發(fā)表產(chǎn)品的論文外，亦有多篇論文是與其它公司共同發(fā)表的，而這些公司包括臺灣的UMC。因此，依照Luminescent Technologies, Inc.公司目前的合作伙伴布局（圖一），該公司在光罩圖案軟件技術的發(fā)展是值注意的。

        二.SMIC的技術發(fā)展值得注意

        在2005年期中報告中，SMIC表示已開始在12吋晶圓廠從事90奈米制程的生產(chǎn)，不過12吋廠的主力制程仍為0.11微米，且SMIC應未有90奈米制程的客戶，故短期內(nèi)，90奈米的技術應該是備而不用。而SMIC進入65奈米的競賽，主因可能為預備和TSMC競逐高階IC產(chǎn)品的代工市場，此外，其90奈米制程技術應非處于成熟階段，故與65奈米制程同步開發(fā)可分攤二個技術的共享成本，例如：光罩、特定機臺、原料、測試等等。

        值得注意的是，中國未來是否有機會出現(xiàn)高階IC產(chǎn)品的電路設計公司，例如繪圖芯片，而一旦這樣的發(fā)展是結合SMIC的65奈米制程開發(fā)，那么加上中國政府對其國內(nèi)廠商的保護政策，或許SMIC將會在高階IC的代工市場上具有一定影響力，而此現(xiàn)象將對國內(nèi)代工廠的競爭力產(chǎn)生潛在的沖擊。

        三.、TSMC仍具有技術優(yōu)勢

        在晶體管的閘極邁向奈米化之際，半導體制程技術已經(jīng)不在是代工廠單方的工作，因為電路布局與代工廠的制程能力息息相關，而設計規(guī)則（design rules）更是不能脫離代工廠的機臺及原料，另外加上高階IC研發(fā)的成本考慮，可預期的是TSMC現(xiàn)有的高階IC客戶于短期內(nèi)應不會謀求第二個生產(chǎn)來源。因此，TSMC仍具有技術優(yōu)勢，但其應注意SMIC本身及相關客戶的互動，并規(guī)劃未來營銷上的風險管理，以有效面對SMIC的技術發(fā)展所帶來的競爭威脅。

        參考文獻：

        1、Luminescent Technologies, Inc.’s website, at http://www.luminescent.com/home.htm (visited on 10/13/2005).