浓毛老太交欧美老妇热爱乱,蜜臀性色av免费,妺妺窝人体色www看美女,久久久久久久久久久大尺度免费视频,麻豆人妻无码性色av专区

位置:51電子網(wǎng) » 技術(shù)資料 » 其它綜合

Virtuoso中使用tech file產(chǎn)生新的device

發(fā)布時(shí)間:2008/6/5 0:00:00 訪問(wèn)次數(shù):1894

virtuoso 中使用technology file 生成新的device

在我們畫layout 的時(shí)候, cadence design framework ii (dfii) 通常是使用technology file 構(gòu)成新的數(shù)

據(jù)。technology file 包含了layer definitions, device definitions, design rules , design applications ,

display parameters 和一些其它信息的定義。

大部分的technology file 分布在兩個(gè)文件中,一個(gè)是講ic fabrication process.

這個(gè)文件包含了

layer definitions.

device definitions.

layer , physical and electrical rules.

rules specific to individual cadence applications.

另外的display resource file 你所定義的每一層是以何種方式來(lái)顯示。它包含

display device definitions.

definitions of colors , stipple patterns, line styles, and fill styles.

definitions of display packets.

下面以一個(gè)例子來(lái)說(shuō)明如何用technology file 來(lái)定義device.

我們可以先edit一個(gè)文檔device.tf . 如下:

;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;
;
; opus pre-defined class, device and wire section
;
;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;

devices(

tccreatecdsdeviceclass()
;
; syenhancement devices
;
symenhancementdevice(
;(name sdlayer sdpurpose [(encloser)] gatelayer gatepurpose
;w l sdext gateext legalregion)
(ptr thin drawing (pplus drawing 0.4) poly1 drawing
1.8 0.6 1.2 0.9 (outside pwell drawing))
(ntr thin drawing poly1 drawing
1.8 0.6 1.2 0.9 (inside pwell drawing))
)
;
; no sydepletion devices
;
tfcdefinesymcontactdevice(
; (name vialayer viapurpose layer1 purpose1 layer2 purpose2
; w l (row column xpitch ypitch xbias ybias) encbylayer1 encbylayer2 legalregion)

(m1_p1 cont drawing mt1 drawing poly1 drawing
0.4 0.4 (1 1 1.0 1.0 center center) 0.2 0.3 _na_)

(m1_p2 cont drawing mt1 drawing poly2 drawing
0.4 0.4 (1 1 1.0 1.0 center center) 0.2 0.3 _na_)

(m1_df cont drawing mt1 drawing thin drawing
0.4 0.4 (1 1 1.0 1.0 center center) 0.2 0.25 _na_)

(m2_m1 mt2via drawing mt1 drawing mt2 drawing
0.45 0.45 (1 1 1.2 1.2 center center) 0.25 0.25 _na_)

(m3_m2 mt3via drawing mt2 drawing mt3 drawing
0.45 0.45 (1 1 1.2 1.2 center center) 0.25 0.3 _na_)
))

然后我們把這個(gè)文件與系統(tǒng)中已有的文件merge 一下。


然后再“save" technology file in the new library.

在ciw 中, 輸入:

hisetbindkey("layout" "<key>f10" "lehicreatesymdev( )")


我們產(chǎn)生一個(gè)新的cellview; press "f10"





我們可以填入 w , l

得到的圖如下:



virtuoso 中使用technology file 生成新的device

在我們畫layout 的時(shí)候, cadence design framework ii (dfii) 通常是使用technology file 構(gòu)成新的數(shù)

據(jù)。technology file 包含了layer definitions, device definitions, design rules , design applications ,

display parameters 和一些其它信息的定義。

大部分的technology file 分布在兩個(gè)文件中,一個(gè)是講ic fabrication process.

這個(gè)文件包含了

layer definitions.

device definitions.

layer , physical and electrical rules.

rules specific to individual cadence applications.

另外的display resource file 你所定義的每一層是以何種方式來(lái)顯示。它包含

display device definitions.

definitions of colors , stipple patterns, line styles, and fill styles.

definitions of display packets.

下面以一個(gè)例子來(lái)說(shuō)明如何用technology file 來(lái)定義device.

我們可以先edit一個(gè)文檔device.tf . 如下:

;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;
;
; opus pre-defined class, device and wire section
;
;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;

devices(

tccreatecdsdeviceclass()
;
; syenhancement devices
;
symenhancementdevice(
;(name sdlayer sdpurpose [(encloser)] gatelayer gatepurpose
;w l sdext gateext legalregion)
(ptr thin drawing (pplus drawing 0.4) poly1 drawing
1.8 0.6 1.2 0.9 (outside pwell drawing))
(ntr thin drawing poly1 drawing
1.8 0.6 1.2 0.9 (inside pwell drawing))
)
;
; no sydepletion devices
;
tfcdefinesymcontactdevice(
; (name vialayer viapurpose layer1 purpose1 layer2 purpose2
; w l (row column xpitch ypitch xbias ybias) encbylayer1 encbylayer2 legalregion)

(m1_p1 cont drawing mt1 drawing poly1 drawing
0.4 0.4 (1 1 1.0 1.0 center center) 0.2 0.3 _na_)

(m1_p2 cont drawing mt1 drawing poly2 drawing
0.4 0.4 (1 1 1.0 1.0 center center) 0.2 0.3 _na_)

(m1_df cont drawing mt1 drawing thin drawing
0.4 0.4 (1 1 1.0 1.0 center center) 0.2 0.25 _na_)

(m2_m1 mt2via drawing mt1 drawing mt2 drawing
0.45 0.45 (1 1 1.2 1.2 center center) 0.25 0.25 _na_)

(m3_m2 mt3via drawing mt2 drawing mt3 drawing
0.45 0.45 (1 1 1.2 1.2 center center) 0.25 0.3 _na_)
))

然后我們把這個(gè)文件與系統(tǒng)中已有的文件merge 一下。


然后再“save" technology file in the new library.

在ciw 中, 輸入:

hisetbindkey("layout" "<key>f10" "lehicreatesymdev( )")


我們產(chǎn)生一個(gè)新的cellview; press "f10"





我們可以填入 w , l

得到的圖如下:



相關(guān)IC型號(hào)

熱門點(diǎn)擊

 

推薦技術(shù)資料

羅盤誤差及補(bǔ)償
    造成羅盤誤差的主要因素有傳感器誤差、其他磁材料干擾等。... [詳細(xì)]
版權(quán)所有:51dzw.COM
深圳服務(wù)熱線:13692101218  13751165337
粵ICP備09112631號(hào)-6(miitbeian.gov.cn)
公網(wǎng)安備44030402000607
深圳市碧威特網(wǎng)絡(luò)技術(shù)有限公司
付款方式


 復(fù)制成功!