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鈍化層質(zhì)量對(duì)器件可靠性的影響

發(fā)布時(shí)間:2012/4/27 19:51:01 訪問次數(shù):2130

    半導(dǎo)體分立器件的表面鈍化MJE15035G層主要有Si0:、PSG、Si。N。、聚酰亞胺等,其作用主要是防止管殼中的濕氣對(duì)器件特性的影響,防止操作過程中表面擦傷及管殼空腔的微粒影響。S13 N4鈍化的器件可防止堿離子穿入下面的Si0:層,提高器件穩(wěn)定性;Alz 03可有效阻擋堿離子進(jìn)入下層Si0。,硅酮塑料具有比環(huán)氧樹脂或石炭酸基封裝化合更高的儲(chǔ)存溫度,主要用于功率器件的封裝和梁式引線器件。在鈍化層中存在裂縫時(shí),經(jīng)常在沿著外形的階梯處或沿著定輪廓金屬體的邊緣產(chǎn)生針孔。合金金屬上介質(zhì)層的針孔有兩種,即在Al線中心區(qū)域的針孑L和沿著定輪廓金屬線邊緣的針孔。邊緣的針孔歸因于金屬邊緣靠近光刻抗蝕劑的距離不適當(dāng),可通過采用較厚的光刻抗蝕劑層或改進(jìn)光刻抗蝕劑的涂敷技術(shù)來消除。Al線中心區(qū)的針孑L歸因于Al接觸合金工序中Al再結(jié)晶形成的小丘,在隨后的淀積鈍化層工序中,小丘完全被介質(zhì)層覆蓋,但不能被光刻抗蝕劑完全覆蓋,使小丘突出在膠膜之上,形成針孔。鈍化層質(zhì)量對(duì)器件可靠性的影響如下:
    ①在器件加電工作過程中,鈍化層的裂縫或針孑L會(huì)導(dǎo)致Al條被濕氣腐蝕,直至開路失效,也會(huì)導(dǎo)致芯片受離子沾污。
    ②含磷濃度過高的PSG層具有吸水性,會(huì)引起Al條的腐蝕;含磷濃度過低的玻璃層會(huì)沿著Al線的邊緣處形成裂縫,導(dǎo)致局部金屬腐蝕。采用Ti-Pt-Au代替AI金屬化,并用Au絲代Al絲鍵合,在抗電化學(xué)腐蝕方面具有明顯優(yōu)勢(shì)。
    ③在塑料封裝工藝中,塑料是離予或雜質(zhì)的來源之一,對(duì)可靠性有害,特別在潮濕環(huán)境下,可加速離子的遷移效應(yīng),導(dǎo)致金屬化產(chǎn)生電化學(xué)腐蝕。
    半導(dǎo)體分立器件的表面鈍化MJE15035G層主要有Si0:、PSG、Si。N。、聚酰亞胺等,其作用主要是防止管殼中的濕氣對(duì)器件特性的影響,防止操作過程中表面擦傷及管殼空腔的微粒影響。S13 N4鈍化的器件可防止堿離子穿入下面的Si0:層,提高器件穩(wěn)定性;Alz 03可有效阻擋堿離子進(jìn)入下層Si0。,硅酮塑料具有比環(huán)氧樹脂或石炭酸基封裝化合更高的儲(chǔ)存溫度,主要用于功率器件的封裝和梁式引線器件。在鈍化層中存在裂縫時(shí),經(jīng)常在沿著外形的階梯處或沿著定輪廓金屬體的邊緣產(chǎn)生針孔。合金金屬上介質(zhì)層的針孔有兩種,即在Al線中心區(qū)域的針孑L和沿著定輪廓金屬線邊緣的針孔。邊緣的針孔歸因于金屬邊緣靠近光刻抗蝕劑的距離不適當(dāng),可通過采用較厚的光刻抗蝕劑層或改進(jìn)光刻抗蝕劑的涂敷技術(shù)來消除。Al線中心區(qū)的針孑L歸因于Al接觸合金工序中Al再結(jié)晶形成的小丘,在隨后的淀積鈍化層工序中,小丘完全被介質(zhì)層覆蓋,但不能被光刻抗蝕劑完全覆蓋,使小丘突出在膠膜之上,形成針孔。鈍化層質(zhì)量對(duì)器件可靠性的影響如下:
    ①在器件加電工作過程中,鈍化層的裂縫或針孑L會(huì)導(dǎo)致Al條被濕氣腐蝕,直至開路失效,也會(huì)導(dǎo)致芯片受離子沾污。
    ②含磷濃度過高的PSG層具有吸水性,會(huì)引起Al條的腐蝕;含磷濃度過低的玻璃層會(huì)沿著Al線的邊緣處形成裂縫,導(dǎo)致局部金屬腐蝕。采用Ti-Pt-Au代替AI金屬化,并用Au絲代Al絲鍵合,在抗電化學(xué)腐蝕方面具有明顯優(yōu)勢(shì)。
    ③在塑料封裝工藝中,塑料是離予或雜質(zhì)的來源之一,對(duì)可靠性有害,特別在潮濕環(huán)境下,可加速離子的遷移效應(yīng),導(dǎo)致金屬化產(chǎn)生電化學(xué)腐蝕。
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