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聲表面波器件生產(chǎn)環(huán)境的控制要求

發(fā)布時(shí)間:2012/5/7 19:57:27 訪問(wèn)次數(shù):754

    為保證聲表面波器仲的可靠性,對(duì)聲表面MICRF102YM波器件生產(chǎn)環(huán)境條件應(yīng)提出明確的控制要求,包括凈化廠房的潔凈度、溫濕度、防靜電設(shè)施,同時(shí)制訂相應(yīng)的控制文件,并在實(shí)際中按要求嚴(yán)格控制。
    潔凈度、溫濕度的控制
    器件生產(chǎn)所需凈化廠房的潔凈度、溫濕度控制要求,各工序有所區(qū)別,光刻、鍍膜等工序要求更高;同時(shí)與器件IDT指條寬度有關(guān),器件IDT指條寬度越窄,工序要求相應(yīng)更高。聲表面波器件生產(chǎn)凈化廠房各工序的潔凈度、溫濕度控制要求見表9.7。

                      

    為保證聲表面波器仲的可靠性,對(duì)聲表面MICRF102YM波器件生產(chǎn)環(huán)境條件應(yīng)提出明確的控制要求,包括凈化廠房的潔凈度、溫濕度、防靜電設(shè)施,同時(shí)制訂相應(yīng)的控制文件,并在實(shí)際中按要求嚴(yán)格控制。
    潔凈度、溫濕度的控制
    器件生產(chǎn)所需凈化廠房的潔凈度、溫濕度控制要求,各工序有所區(qū)別,光刻、鍍膜等工序要求更高;同時(shí)與器件IDT指條寬度有關(guān),器件IDT指條寬度越窄,工序要求相應(yīng)更高。聲表面波器件生產(chǎn)凈化廠房各工序的潔凈度、溫濕度控制要求見表9.7。

                      

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