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摻雜半導(dǎo)體

發(fā)布時間:2015/10/23 19:59:33 訪問次數(shù):1261

   半導(dǎo)體材料在其本征狀態(tài)時是不能用于固態(tài)器件的。但是通過一種稱為摻雜( doping)的工藝, UA78M12CKTPR可以把特定的元素引入到本征半導(dǎo)體材料中。這些無素可以提高本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電性,摻雜的材料表現(xiàn)出兩種獨特的特性,它們是固態(tài)器件的基礎(chǔ)。這兩種特性是:

   摻雜半導(dǎo)體的電阻率:金屬電阻率的范圍在每歐姆·厘米l04~ 106之間,該范圍的含義可以通過對如圖2.5所示的電阻進行測量得到.如果固定體積的金屬電阻率確定,改變電阻的唯一力‘法是改變金屬的形狀。而在有半導(dǎo)體特性的材料中,電阻率可以改變,從而在電阻的設(shè)計中增加了又…個自由度。半導(dǎo)體就是這樣的材料,其電阻率的范圍叮以通過摻雜擴展到10 I~103之間,、

   半導(dǎo)體材料可以摻雜一些元素以達到一個有用的電阻率范圍,這種材料或者是多電子(N剄)的或者是多空穴(P型)的.、

   圖2.7顯示出摻雜程度與硅的電阻率之間的關(guān)系,、縱坐標(biāo)為載流子濃度是因為材料中的電子或窄穴稱為載流子( carrier),注意有兩條曲線:N型與P型。這是因為在材料中移動一個電子或空穴所需的能量是不同的j如曲線所示,在硅中要達到指定的電阻率,N型所需摻雜的濃度要比P型?表示這種現(xiàn)象的另一種方法是移動一個電子比移動一個窄穴的能量要小.

    


   半導(dǎo)體材料在其本征狀態(tài)時是不能用于固態(tài)器件的。但是通過一種稱為摻雜( doping)的工藝, UA78M12CKTPR可以把特定的元素引入到本征半導(dǎo)體材料中。這些無素可以提高本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電性,摻雜的材料表現(xiàn)出兩種獨特的特性,它們是固態(tài)器件的基礎(chǔ)。這兩種特性是:

   摻雜半導(dǎo)體的電阻率:金屬電阻率的范圍在每歐姆·厘米l04~ 106之間,該范圍的含義可以通過對如圖2.5所示的電阻進行測量得到.如果固定體積的金屬電阻率確定,改變電阻的唯一力‘法是改變金屬的形狀。而在有半導(dǎo)體特性的材料中,電阻率可以改變,從而在電阻的設(shè)計中增加了又…個自由度。半導(dǎo)體就是這樣的材料,其電阻率的范圍叮以通過摻雜擴展到10 I~103之間,、

   半導(dǎo)體材料可以摻雜一些元素以達到一個有用的電阻率范圍,這種材料或者是多電子(N剄)的或者是多空穴(P型)的.、

   圖2.7顯示出摻雜程度與硅的電阻率之間的關(guān)系,、縱坐標(biāo)為載流子濃度是因為材料中的電子或窄穴稱為載流子( carrier),注意有兩條曲線:N型與P型。這是因為在材料中移動一個電子或空穴所需的能量是不同的j如曲線所示,在硅中要達到指定的電阻率,N型所需摻雜的濃度要比P型?表示這種現(xiàn)象的另一種方法是移動一個電子比移動一個窄穴的能量要小.

    


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10-23摻雜半導(dǎo)體

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