光刻工藝用于在晶圓表面和內(nèi)部產(chǎn)生需要的圖形和尺寸。將數(shù)字化圖形轉(zhuǎn)到晶圓上需要一砦加工步驟。SSL2101T在光刻制程中，準(zhǔn)備光刻母版( reticle)q是其中的一個(gè)中間步驟。光刻母版是在玻璃或石英板的鍍薄膜鉻層上生成分層設(shè)計(jì)電路圖的復(fù)制圖[見(jiàn)圖4.12(a)]。光刻母版可直接用于進(jìn)行光刻，也可能被用來(lái)制造掩模版。掩模版也是在玻璃底板表層鍍鉻。在加工完成后，在掩模版表面會(huì)覆蓋許多電路圖形的副本[見(jiàn)圖4.12(b)]。掩模版用于在整個(gè)晶圓表面形成圖形。電子束曝光系統(tǒng)跳過(guò)光刻母版或掩模版，并直接在晶圓表面曝光。光刻母版和掩模版的制作過(guò)程將在第10章講述。

   圖4. 12(a)在玻璃模版上鍍鉻；(b)有相同圖形的光刻母版

   光刻母版和掩模版由工廠單獨(dú)的部門制造或者從外部供應(yīng)商購(gòu)買。每個(gè)電路類型都有自己分別酌光刻母版或掩模版。