由經(jīng)驗得出的法則是，充分的RT9167A-33GB沖洗要以流速為每分鐘等于沖洗池體積的5倍流量（每分鐘的水更換次數(shù)）持續(xù)沖洗至少5分鐘（取決于晶圓的直徑）。如果沖洗池的體積為3L.

   沖洗的時間長短是由測量排出沖洗池的水的電阻率決定的。

化學(xué)清洗液在沖洗的水中是帶電的分子，它們的存在可由水的電

阻率推測。，如果進入沖洗池的水的電阻為18.2 Mfl的水平，那么 在清洗池的出E]處水的電阻為15~18.2 MQ說明晶圓已經(jīng)清洗并 沖淋干凈。由于清水沖洗至關(guān)重要，所以通常至少要進行兩種驀  圖s．315絮行下流沖洗洗，而總的沖洗時間要設(shè)定為由電阻率測量而確定的最小沖洗臥間的2~5倍。通常在沖洗池出口處安裝一個水電阻率測量表以不斷地測量出口處水的電阻率，并在沖洗完成時給出信號。

   清洗機：水清洗效率是污染控制和生產(chǎn)成本的兩個關(guān)鍵因素。平行式下流沖洗(見圖5. 31)直接將清洗的水沖到晶圓上的通道，在清洗步驟使混合最小化。

   考慮到?jīng)_洗的有效性和節(jié)約用量水，泄放式?jīng)_洗無疑是一個引入注目的方法。系統(tǒng)的構(gòu)成類似溢流式?jīng)_洗，但具有噴灑能力。晶圓被放置到干的沖洗槽中即刻用去離子水噴淋。當(dāng)噴淋進行時，沖洗槽被水迅速充滿。當(dāng)水溢流至沖洗槽的頂端，其底部的一個活門開啟，將水頃刻間排入泄放系統(tǒng)。這樣的填滿和泄放的過程反復(fù)幾次直至晶圓被完全沖洗干凈。