噴灑式?jīng)_洗：RT9173BGS流動的水通過稀釋的機(jī)械原理將晶圓表面水溶性的化學(xué)物質(zhì)除去。最表層的化學(xué)物質(zhì)溶解于水并被水流攜帶走。這種動作在一次一次不間斷地進(jìn)行。較快的水流速可以更快地將化學(xué)物質(zhì)溶解，從而使沖洗速度提高。水的更換次數(shù)直接決定r沖洗的速度。這可以通過想象以一個非�？斓乃魉俣仍谝粋�非常大的沖洗池中進(jìn)行的沖洗來理解。從晶圓表面去除掉的化學(xué)物質(zhì)會均勻地分布在沖洗池中，因此一部分化學(xué)物質(zhì)也仍然將會附著在晶圓表面。只有通過足夠多的水流進(jìn)，并攜帶著化學(xué)物質(zhì)流出沖洗池，才可將化學(xué)物質(zhì)最終從池中排出。

   另一種沖淋速度較快的方法是利用水噴淋的方法。噴灑是通過來自它自身動量的物理作用除去化學(xué)物質(zhì)的。那些大量的小水滴沖擊晶圓表面，可以達(dá)到與更換率極高的沖洗方法相同的效果。除了更有效的沖洗效果與溢流式?jīng)_洗相比，噴灑沖洗的用水量相當(dāng)少。但當(dāng)用電阻率監(jiān)測器測量噴灑沖洗器中排出的水的電阻時，一個問題將隨之而來，被噴射的水捕捉到的空氣中的二氧化碳相當(dāng)于帶電的顆粒，從而被電阻率測量器視為污染物，而其實(shí)它們并不是污染物。

   泄放式?jīng)_洗的男一個好處是全部過程在一個槽中進(jìn)行，節(jié)約設(shè)備和空間。它還是上個可以自動操作的系統(tǒng)，操作員只需將晶片放人槽中（這一操作也可自動實(shí)現(xiàn)）然后按下啟動鍵即可。

   旋轉(zhuǎn)淋洗烘干機(jī)：清水沖洗后，必須將晶片烘干。這并不是一個無關(guān)緊要的過程。任何保留在晶片表面的水（甚至是原子）都可能對以后的任何一步操作產(chǎn)生潛在的影響。目前所應(yīng)用的有3種烘干技術(shù)（之間有所不同）。