暗場(chǎng)掩模版和正膠組合
發(fā)布時(shí)間:2015/10/30 22:20:30 訪問次數(shù):1775
圖形尺寸變小;(b)暗場(chǎng)掩模版和正膠組合,圖形尺寸變大對(duì)于大多數(shù)掩模版來說, AD9923XBCZ圖形大部分都是空洞。用正膠和暗場(chǎng)掩模版組合還可以在晶圓表面得到附加的針孔保護(hù)(見圖8. 19)。亮場(chǎng)掩模版在玻璃表面會(huì)傾向于有裂紋。。這些裂紋稱為玻璃損傷( glassdamage),它會(huì)擋住曝光源而在光刻膠表面產(chǎn)生不希望的小孔,結(jié)果就會(huì)在晶圓表面刻蝕出小孔。那砦在光刻膠透明區(qū)域上的污垢也會(huì)造成同樣的結(jié)果。在暗場(chǎng)掩模版卜^,大部分都被鉻覆蓋住了,所以不容易有針孔出現(xiàn)。因此,晶圓表面也就會(huì)有比較少的孔洞,對(duì)于非常小的圖形面積,正膠是唯一的選擇。
圖8.19 (a)有污垢和玻璃損傷裂紋的亮場(chǎng)掩模版;(b)最影后在負(fù)膠七的結(jié)果
去除光刻膠也是一個(gè)因素?傮w來說,去除正膠會(huì)叱去除負(fù)膠要容易,它發(fā)生在那些受環(huán)境影響比較小的化學(xué)品中。生產(chǎn)器件和電路的制造領(lǐng)域,對(duì)于那些圖形尺寸大于2ILm的工藝還是在用負(fù)膠。圖8. 20顯示了這兩種類型光刻膠屬性的比較。
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圖形尺寸變小;(b)暗場(chǎng)掩模版和正膠組合,圖形尺寸變大對(duì)于大多數(shù)掩模版來說, AD9923XBCZ圖形大部分都是空洞。用正膠和暗場(chǎng)掩模版組合還可以在晶圓表面得到附加的針孔保護(hù)(見圖8. 19)。亮場(chǎng)掩模版在玻璃表面會(huì)傾向于有裂紋。。這些裂紋稱為玻璃損傷( glassdamage),它會(huì)擋住曝光源而在光刻膠表面產(chǎn)生不希望的小孔,結(jié)果就會(huì)在晶圓表面刻蝕出小孔。那砦在光刻膠透明區(qū)域上的污垢也會(huì)造成同樣的結(jié)果。在暗場(chǎng)掩模版卜^,大部分都被鉻覆蓋住了,所以不容易有針孔出現(xiàn)。因此,晶圓表面也就會(huì)有比較少的孔洞,對(duì)于非常小的圖形面積,正膠是唯一的選擇。
圖8.19 (a)有污垢和玻璃損傷裂紋的亮場(chǎng)掩模版;(b)最影后在負(fù)膠七的結(jié)果
去除光刻膠也是一個(gè)因素?傮w來說,去除正膠會(huì)叱去除負(fù)膠要容易,它發(fā)生在那些受環(huán)境影響比較小的化學(xué)品中。生產(chǎn)器件和電路的制造領(lǐng)域,對(duì)于那些圖形尺寸大于2ILm的工藝還是在用負(fù)膠。圖8. 20顯示了這兩種類型光刻膠屬性的比較。
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