在研發(fā)X射線曝光設(shè)備的同時(shí)，X射線光刻膠的研發(fā)工作也在進(jìn)行。NCP303LSN33T1這項(xiàng)工作很復(fù)雜，因?yàn)闆]有一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的X射線源，同時(shí)X射線光刻膠要具有對(duì)X射線的高敏感性和對(duì)刻蝕工藝有良好的阻擋作用。而光刻膠對(duì)X射線的高敏感性和對(duì)刻蝕I：藝的阻擋作用這兩個(gè)參數(shù)在實(shí)際生產(chǎn)中很難平衡。另外一個(gè)障礙是1：1曝光，因為高能X射線會(huì)破壞用來(lái)縮影的光學(xué)系統(tǒng)。由于放大掩模版尺寸的限制，只有步進(jìn)式光刻機(jī)才有實(shí)際使用的價(jià)值。

   X射線源包括標(biāo)準(zhǔn)X射線發(fā)射管、點(diǎn)源激光驅(qū)動(dòng)源或同步激光發(fā)生器。點(diǎn)源與傳統(tǒng)的系統(tǒng)相類似，每個(gè)機(jī)器有一個(gè)曝光源。同步激光發(fā)生器是一臺(tái)巨大而昂貴的設(shè)備，它可以將電子在軌道中加速。在被稱為同步加速器輻射( synchrotronradiation)過程中，在軌電子發(fā)出X射線。隨著X射線的旋轉(zhuǎn)，它們從不同的端口射出并被導(dǎo)向多個(gè)分立式光刻機(jī)中。