電子束光刻是一種成熟的技術(shù)，它被用來(lái)    圖10.5 x射線曝光系統(tǒng)制作高質(zhì)量的掩模版和放大掩模版。NCP303LSN42T1該系統(tǒng)（見(jiàn)圖10.6）主要包括能產(chǎn)生小直徑電子束的發(fā)射器和一個(gè)控制電子束開(kāi)關(guān)的抑制器。習(xí)10.6電子束曝光曝光必須在真空中進(jìn)行，以防止空氣分子對(duì)電子束的干擾。電子束通過(guò)一組靜電板然后到達(dá)掩模版、放大掩模版或晶圓，這組靜電板的作用是調(diào)節(jié)電子束方向（在x-y方向）。它們的功能和電視機(jī)的電子束導(dǎo)向機(jī)理類似。為保證電子束精確到達(dá)晶片或掩模版，電子束源、相應(yīng)的機(jī)械裝置和要被曝光的襯底都在真空環(huán)境中。

   電子束光刻無(wú)須使用產(chǎn)生圖形的掩模版或放大掩模版。因?yàn)椴挥醚谀０�，一些由掩模�?/span>或放大掩模版曝光引起的缺陷和錯(cuò)誤源被去除r。電子束開(kāi)關(guān)和導(dǎo)向由計(jì)算機(jī)來(lái)控制，計(jì)算機(jī)中存有直接來(lái)自計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)( CAD)設(shè)計(jì)階段的晶圓圖形。電子束被偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)導(dǎo)向到需要曝光的位置上，并將電子束打開(kāi)，使相應(yīng)的部位光刻膠曝光．，更大面積的襯底被固定在x-y載臺(tái)上，載臺(tái)連同襯底在電子束下移動(dòng)直到全部曝光完畢。這種對(duì)準(zhǔn)和曝光技術(shù)稱為“直接書(shū)寫(xiě)式”( direct writing)。