以上三個(gè)局限性在使用掃描電鏡時(shí)都能夠克服。掃描電鏡相對于光學(xué)顯微鏡有很多改。 IRF530NPBF其光源是電子束，在晶圓或器件表面進(jìn)行掃描，電子碰撞晶圓表面，使晶圓表面的一些電子逃逸出來，然后這些二次電子被收集并被轉(zhuǎn)換成表面圖像，顯示在屏幕和照（見圖14. 23）

   掃描電鏡(SEM)分析需要將晶圓和電子束均置于真空中二電子束波長遠(yuǎn)比白光波長短，它允許表面細(xì)節(jié)分辨率降至皿微米水平，景深問題不再存在，并且表面平面都處于聚焦?fàn)顟B(tài)

   類似地，放大倍數(shù)非常高，實(shí)際上限已達(dá)到50 000倍：在掃描電子顯微鏡下，一種傾斜的晶圓固定器實(shí)現(xiàn)廠以一定角度觀察晶圓表面，這一點(diǎn)增強(qiáng)維視覺效果（見圖14. 24），使得表面細(xì)節(jié)和特征能夠在·個(gè)比較有利的方向上觀察.

   一嶁材料如光刻膠，在電子束轟擊下不能發(fā)射二次電子j但在掃描電子顯微鏡下檢測光刻膠層時(shí)，光刻膠層會被一層烘f的黃金覆蓋。黃金層與光刻膠層的外形相符，在電子束轟擊下，黃金層會發(fā)射二次電子，所以可以形成掃描電子顯微鏡圖片，這是…個(gè)嚴(yán)格的光刻膠層復(fù)制品.