膜厚不均勻。精度要TC54VC4202求不高時(shí),厚度測(cè)量可用比色法、磨蝕法;精度要求高時(shí),可用雙光干涉法、電容一電壓法、橢偏光法。

   S⒑2膜層的表面顏色一致,則說(shuō)明膜厚均勻;若顏色有較明顯的變化,則說(shuō)明膜厚不均。⒏o膜的厚度不均勻會(huì)影響其雜質(zhì)掩蔽的功能,絕緣性變差,而且在光刻腐蝕時(shí)容易造成局部沾污等。氧化爐內(nèi)的氧氣或水汽不均勻、爐溫變化不定以及恒溫區(qū)太短等都是造成膜厚不均勻的原因。想得到厚度均勻的氧化層,則要求氧化前做好硅片的處理,保證清洗質(zhì)量和硅片表面質(zhì)量,嚴(yán)格控制爐溫,控制好水浴溫度,必須有長(zhǎng)且穩(wěn)定的恒溫區(qū),對(duì)氧化氣體的流量也要嚴(yán)格控制。

   表面質(zhì)量:要求薄膜表面無(wú)斑點(diǎn)、裂紋、白霧、發(fā)花和針孔等缺陷。通常通過(guò)在聚光燈下目測(cè)或者鏡檢發(fā)現(xiàn)各種缺陷。表面斑點(diǎn)。斑點(diǎn)一般用肉眼無(wú)法看到,要通過(guò)顯微鏡觀察。產(chǎn)生表面斑點(diǎn)的原因一般有:晶圓表面清洗不徹底,殘留了一些雜質(zhì)顆粒,這些雜質(zhì)在高溫下黏附在s⒑2膜的表面形成斑點(diǎn):石英管在高溫下工作時(shí)間過(guò)長(zhǎng),脫落的顆粒落在晶圓表面,出現(xiàn)斑點(diǎn):晶圓清洗后水跡耒干、濕氧過(guò)程中有水滴落在晶圓上,都會(huì)使s⒑2膜的表面出現(xiàn)斑點(diǎn)。為了避免斑點(diǎn)的出現(xiàn),要仔細(xì)清潔晶圓表面,清洗石英管,嚴(yán)格控制水溫以及氧氣的流量。