光刻膠的下面是最終要被刻蝕形成圖案的底層薄膜。如果這個(gè)底層是反光的, A3250JUATL那么光線將從這個(gè)膜層反射并有可能損害臨近的光刻膠。這個(gè)損害會(huì)對(duì)線寬控制產(chǎn)生不利的影響,因此需要使用抗反射涂層。兩種最主要的光反射問(wèn)題是反射切口和駐波。

   在刻蝕形成的垂直側(cè)墻表面,反射光進(jìn)入不需要曝光的光刻膠中就會(huì)形成反射切口。

   駐波表征入射光波和反射光波之間的干涉,這種干涉引起了隨光刻膠厚度變化的不均勻曝光。駐波的發(fā)生對(duì)深紫外光刻膠更加顯著,因?yàn)楹芏喙杵砻嬖谳^短的深紫外波長(zhǎng)反射更加厲害。駐波的發(fā)生本質(zhì)上降低了光刻膠成像的分辨率。減小駐波效應(yīng)的方法有抗反射涂層、染料、曝光后烘焙。

   底部抗反射涂層:該涂層有2種,即有機(jī)抗反射涂層(吸收光以減少反射)和無(wú)機(jī)反射涂層(通過(guò)特定波長(zhǎng)相移相消起作用)。選擇抗反射涂層的一個(gè)因素是在完成光刻工藝后抗反射涂層被除去的能力。有些有機(jī)抗反射涂層是水溶的,通過(guò)顯影步驟很容易去除。無(wú)機(jī)反射涂層較難被去除,有時(shí)留在硅片上成為器件的一部分。頂部抗反射涂層:頂部抗反射涂層在光刻膠和空氣的交界面上減少反射。頂部抗反射涂層不吸收光,而是作為一個(gè)透明的薄膜干涉層,通過(guò)光線間的相干相消來(lái)消除反射。