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氧化工藝的分步驟

發(fā)布時(shí)間:2016/6/17 21:16:53 訪問次數(shù):707

   工藝步驟的增加同時(shí)提高了另外4個(gè)成品率制約因素對工藝中晶圓產(chǎn)生影響的可能性。 H12WD48125例如,要想在一個(gè)50步的工藝流程上獲得75%的累積成品率,每單步的成品率必須達(dá)到99.4%。如果一個(gè)工序步驟只能達(dá)到50%的成品率,整體的累計(jì)成品率不會(huì)超過50%。每個(gè)主要工藝操作都包含了許多工藝步驟及分步,這使得晶圓生產(chǎn)部門面臨著日益升高的壓力。在表3.14所示的11步工藝流程中,第一步是氧化工藝。一個(gè)簡單的氧化工藝需要完成幾個(gè)工藝步驟,分別是清洗、氧化和評估。它們每一步都包含有分步驟。表3.15中列出了典型的氧化清洗工藝所包含的8個(gè)分步驟。每一個(gè)分步驟都存在污染晶圓、打碎晶圓或者損傷晶圓的可能。

    

   工藝步驟的增加同時(shí)提高了另外4個(gè)成品率制約因素對工藝中晶圓產(chǎn)生影響的可能性。 H12WD48125例如,要想在一個(gè)50步的工藝流程上獲得75%的累積成品率,每單步的成品率必須達(dá)到99.4%。如果一個(gè)工序步驟只能達(dá)到50%的成品率,整體的累計(jì)成品率不會(huì)超過50%。每個(gè)主要工藝操作都包含了許多工藝步驟及分步,這使得晶圓生產(chǎn)部門面臨著日益升高的壓力。在表3.14所示的11步工藝流程中,第一步是氧化工藝。一個(gè)簡單的氧化工藝需要完成幾個(gè)工藝步驟,分別是清洗、氧化和評估。它們每一步都包含有分步驟。表3.15中列出了典型的氧化清洗工藝所包含的8個(gè)分步驟。每一個(gè)分步驟都存在污染晶圓、打碎晶圓或者損傷晶圓的可能。

    

相關(guān)技術(shù)資料
6-17氧化工藝的分步驟
相關(guān)IC型號
H12WD48125
H12WD4850

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