照明分析非常先進,能告訴你何時追蹤到了足以滿足設計精度要求的光線�？�HEF4060BT以控制模擬,修改分區(qū)數(shù)等接收器屬性,以及更改對稱性計算以影響模擬誤差估計。在對微光刻系統(tǒng)等高精度應用的蒙特卡羅模擬過程中,可以追蹤數(shù)百萬條光線。您可以將誤差估計報告中的數(shù)據(jù)復制、粘貼到其他應用程序進行后處理,或者合并到其他報告中。hghttook支持雙向散射分布函數(shù)(BsDF),該函數(shù)是公認最精確的散射模擬方法,并且是太空望遠鏡等精密應用使用的標準方法。Ⅱghttools還帶有參數(shù)研究實用工具,用來確定制造工藝可接受的公差范圍,以使實際制造部件滿足產(chǎn)品規(guī)格要求。根據(jù)系統(tǒng)配置不同,可以控制光線追跡以獲得更精確、更有意義的結(jié)果。利用Ligh釓ools,無論是二維紋理(例如點畫)還是三維紋理(各種形狀的隆起部分),均可以應用于任何平面表面。這一能力不僅有助于快速創(chuàng)建復雜的表面,而且有助于有效地模擬這些表面對光傳播的影響。Ⅱghttoo1s還有許多專門針對照明光學系統(tǒng)設計的獨特功能。