表面濃度的確定
發(fā)布時間:2017/5/14 18:34:15 訪問次數(shù):1625
表面濃度是在半導(dǎo)體產(chǎn)品設(shè)計或制造過程中,特性分析和模擬計算時經(jīng)常要用到的又一個重要參數(shù)。如圖521所示為同種分布函數(shù)情況下,R=碼和Cs之間的關(guān)系。R3602DR-S表面濃度不同,雜質(zhì)分布可以有很大的差異,從而對產(chǎn)品特性帶來影響。但是,即使表面濃度Cs相同,分布仍然是不確定的,如圖521(a)所示。反之,R□相同,Cs不相同,如圖521(b)所示,分布也是不確定的。根據(jù)方塊電阻R□與雜質(zhì)總量Q的關(guān)系,以及雜質(zhì)總量和結(jié)深的表達(dá)式,可以知道,在本體雜質(zhì)濃度不變的情況下,R□、Cs和凸三者之間存在對應(yīng)的關(guān)系,已知其中的兩個,第二個就唯一地確定,從而具有確定的雜質(zhì)分布。反之亦然,如圖521(c)所示。所以,對于一定的分布形式,只要其中的任意兩個參數(shù)給定,雜質(zhì)分布就唯一地確定,并且第三個參數(shù)也自然被確定?梢,表面濃度Cs、結(jié)深9l和方塊電阻R□都是描述雜質(zhì)分布常用的和相關(guān)的參數(shù)。
在這三個參數(shù)中,結(jié)深和方塊電阻能方便地測得,而表面濃度的直接測量比較困難,必須采用放射性示蹤技術(shù)或其他較麻煩的手段。因此,在生產(chǎn)中,常由測量R□和trl來了解擴(kuò)散層的雜質(zhì)分布,并通過調(diào)節(jié)擴(kuò)散條件來控制R□和.rl的大小,從而達(dá)到控制擴(kuò)散雜分布的目的。而在產(chǎn)品設(shè)計或分析中需要知道表面濃度Cs的具體數(shù)值時,可通過已知的凸和與:的關(guān)系(B=寺窀》先求出平均電導(dǎo)率然后通過查圖表的方法求得。
表面濃度是在半導(dǎo)體產(chǎn)品設(shè)計或制造過程中,特性分析和模擬計算時經(jīng)常要用到的又一個重要參數(shù)。如圖521所示為同種分布函數(shù)情況下,R=碼和Cs之間的關(guān)系。R3602DR-S表面濃度不同,雜質(zhì)分布可以有很大的差異,從而對產(chǎn)品特性帶來影響。但是,即使表面濃度Cs相同,分布仍然是不確定的,如圖521(a)所示。反之,R□相同,Cs不相同,如圖521(b)所示,分布也是不確定的。根據(jù)方塊電阻R□與雜質(zhì)總量Q的關(guān)系,以及雜質(zhì)總量和結(jié)深的表達(dá)式,可以知道,在本體雜質(zhì)濃度不變的情況下,R□、Cs和凸三者之間存在對應(yīng)的關(guān)系,已知其中的兩個,第二個就唯一地確定,從而具有確定的雜質(zhì)分布。反之亦然,如圖521(c)所示。所以,對于一定的分布形式,只要其中的任意兩個參數(shù)給定,雜質(zhì)分布就唯一地確定,并且第三個參數(shù)也自然被確定。可見,表面濃度Cs、結(jié)深9l和方塊電阻R□都是描述雜質(zhì)分布常用的和相關(guān)的參數(shù)。
在這三個參數(shù)中,結(jié)深和方塊電阻能方便地測得,而表面濃度的直接測量比較困難,必須采用放射性示蹤技術(shù)或其他較麻煩的手段。因此,在生產(chǎn)中,常由測量R□和trl來了解擴(kuò)散層的雜質(zhì)分布,并通過調(diào)節(jié)擴(kuò)散條件來控制R□和.rl的大小,從而達(dá)到控制擴(kuò)散雜分布的目的。而在產(chǎn)品設(shè)計或分析中需要知道表面濃度Cs的具體數(shù)值時,可通過已知的凸和與:的關(guān)系(B=寺窀》先求出平均電導(dǎo)率然后通過查圖表的方法求得。
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