影響光刻工藝過(guò)程的主要因素為掩模板、光刻膠和光刻機(jī)。掩模板由透光的襯底材料(石英玻璃)和不透光金屬吸收材料(主要是金屬鉻)組成。 HAT3036R-EL-E通常還要在表面沉積一層保護(hù)膜,避免掩模板受到空氣中微�；蚱渌问降奈廴尽９饪棠z叉稱(chēng)光致抗蝕劑,是由光敏化合物、基體樹(shù)脂和有機(jī)溶劑等混合而成的膠狀液體。光刻膠受到特定波長(zhǎng)光線的作用時(shí)化學(xué)結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,使光刻膠在某種特定溶液中的溶解特性改變。正膠的分辨率高,一般在超大規(guī)模集成電路工藝中采用。負(fù)膠的分辨率差,適于加I線寬≥3um的器件。光刻機(jī)是曝光工具,是光刻工程的核心部分,其造價(jià)昂貴,可稱(chēng)世界上最精密的儀器。本章將討論光刻工藝所用光刻版、光刻膠、光學(xué)分辨率增強(qiáng)技術(shù)和光刻設(shè)各。

   光刻掩模板的制造

   掩模板就是將設(shè)計(jì)好的特定幾何圖形通過(guò)一定的方法以一定的間距和布局做在基板上,供光刻工藝中重復(fù)使用。制造商將設(shè)計(jì)工程師交付的標(biāo)準(zhǔn)制版數(shù)據(jù)傳送給一個(gè)稱(chēng)為圖形發(fā)生器的設(shè)備,圖形發(fā)生器會(huì)根據(jù)該數(shù)據(jù)完成圖形的產(chǎn)生和重復(fù),并將版圖數(shù)據(jù)分層轉(zhuǎn)移到各層光刻掩模板(為涂有感光材料的優(yōu)質(zhì)玻璃板)上,這就是制版。