薄層電阻測(cè)試結(jié)構(gòu)的形狀和測(cè)試方法
發(fā)布時(shí)間:2017/6/1 20:16:50 訪問(wèn)次數(shù):578
隨著微電子工業(yè)的發(fā)展,要求把薄層電阻測(cè)試結(jié)構(gòu)做得盡可能小。為此發(fā)展PAL20L8ACNS了各種形狀的薄層電阻測(cè)試結(jié)構(gòu),主要是各種方形十字結(jié)構(gòu)。常用的有偏移方形十字結(jié)構(gòu)(如圖135所示)、大正(Gr∝k)十字形結(jié)構(gòu)(如圖136所示)和小正十字形結(jié)構(gòu)(如圖137所示)。其中正十字形結(jié)構(gòu)從工藝角度看可做得很小。
這些結(jié)構(gòu)本身可以做得很小。但接觸處無(wú)法符合Ⅵ)P結(jié)構(gòu)所要求的點(diǎn)接觸。它們和ˇ0P結(jié)構(gòu)的偏離,使測(cè)量值和實(shí)際值不一致。經(jīng)計(jì)算,設(shè)計(jì)正十字形測(cè)試結(jié)構(gòu)時(shí),只要臂長(zhǎng)大于臂寬,其誤差即可小于0。l%。這種測(cè)試結(jié)構(gòu)是一種極好的VDP結(jié)構(gòu),允許測(cè)量很小區(qū)域的薄層電阻,其寬度僅受制造I藝的限制。
隨著微電子工業(yè)的發(fā)展,要求把薄層電阻測(cè)試結(jié)構(gòu)做得盡可能小。為此發(fā)展PAL20L8ACNS了各種形狀的薄層電阻測(cè)試結(jié)構(gòu),主要是各種方形十字結(jié)構(gòu)。常用的有偏移方形十字結(jié)構(gòu)(如圖135所示)、大正(Gr∝k)十字形結(jié)構(gòu)(如圖136所示)和小正十字形結(jié)構(gòu)(如圖137所示)。其中正十字形結(jié)構(gòu)從工藝角度看可做得很小。
這些結(jié)構(gòu)本身可以做得很小。但接觸處無(wú)法符合Ⅵ)P結(jié)構(gòu)所要求的點(diǎn)接觸。它們和ˇ0P結(jié)構(gòu)的偏離,使測(cè)量值和實(shí)際值不一致。經(jīng)計(jì)算,設(shè)計(jì)正十字形測(cè)試結(jié)構(gòu)時(shí),只要臂長(zhǎng)大于臂寬,其誤差即可小于0。l%。這種測(cè)試結(jié)構(gòu)是一種極好的VDP結(jié)構(gòu),允許測(cè)量很小區(qū)域的薄層電阻,其寬度僅受制造I藝的限制。
上一篇:插花式
熱門(mén)點(diǎn)擊
- 硅片規(guī)格及用途
- 硅基雙極型npn晶體管芯片制造的主要工藝流程
- 調(diào)整MOs晶體管的閾值電壓
- 檢測(cè)、分析外延層缺陷及其產(chǎn)生原因非常重要
- 分析測(cè)量電阻率誤差的來(lái)源
- 蒸鍍?cè)O(shè)備
- 典型氣象衛(wèi)星的有效載荷
- 印度INSAT衛(wèi)星
- 波門(mén)跟蹤
- 輻射定標(biāo)基本理論
推薦技術(shù)資料
- 聲道前級(jí)設(shè)計(jì)特點(diǎn)
- 與通常的Hi-Fi前級(jí)不同,EP9307-CRZ這臺(tái)分... [詳細(xì)]