自從1958年9月12日杰克・基爾比(Jack s.Kilby)發(fā)明了世界第一塊集成電路以來,集成電路已經(jīng)走過50多年的高速發(fā)展歷程,現(xiàn)在最小線寬已經(jīng)在20~30nΠ1之間,進(jìn)XC1765DPC20C入深亞微米范圍。這其中關(guān)鍵技術(shù)之一的光刻技術(shù)也從最初使用類似照相設(shè)備中的放大鏡頭,到當(dāng)今的浸沒式1.35高數(shù)值孔徑,具備白動(dòng)控制和調(diào)整成像質(zhì)量、直徑達(dá)半米多、重達(dá)半噸的巨型鏡頭組。光刻的作用是將半導(dǎo)體電路的圖形逐層印制硅片上,官的思想來源于歷史悠久的印刷技術(shù),所不同的是印刷通過使用墨水在紙上產(chǎn)生光反射率的變化來記錄信息,而光刻則采用光勹光敏感物質(zhì)的光化學(xué)反應(yīng)來實(shí)現(xiàn)對比度的變化。

    印刷技術(shù)最早產(chǎn)生于中國漢代晚期。800多年后,經(jīng)由宋朝的畢異革命性的改良,將固定的雕版印刷改造成活字印刷后便高速發(fā)展「2J。現(xiàn)在又發(fā)展出了激光照排排版技術(shù)�，F(xiàn)在意義上的“光刻”(Photolithography)起始于1798年阿羅約・寨內(nèi)菲德勒(Alois senefedler)的嘗試。當(dāng)他試圖將自己的著作在德國慕尼黑出版時(shí)發(fā)現(xiàn),如果使用油性鉛筆將插圖畫在多孔的石灰石上,并且將沒有畫到的地方用水濕潤,由于油性墨水與水的互相排斥,墨水只會(huì)被粘在用鉛筆畫過的地方。這種技術(shù)被叫做LithQgraphy,或者在石頭上畫圖。Lithography是現(xiàn)代多熏套印的先導(dǎo)。