現(xiàn)在世界上主要光刻機(jī)制造商為荷蘭的阿斯麥(ASML)、日本的尼康(Nikon)、佳能XC1765ELPD8C(Canon)以及其他的非全尺寸的光刻機(jī)廠商,如Ultrastepper等。國(guó)產(chǎn)先進(jìn)掃描式光刻機(jī)制造起步較晚,在~9O02年之后,主要由上海微電子裝備有限公司(SMEE)研發(fā)。國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)從維修二手的光刻機(jī)發(fā)展到了自主研發(fā)、制造光刻機(jī)。當(dāng)前在開發(fā)的最先進(jìn)的光刻機(jī)是193nm的SSA600/⒛(見圖7.3),雖然與世界先進(jìn)水平還有較大差距,但是,應(yīng)該說(shuō)已經(jīng)取得了可喜進(jìn)步。其數(shù)值孔徑為0.75,標(biāo)準(zhǔn)曝光場(chǎng)為26×33mm,分辨率為90nm,套刻精度為⒛nm,300mm產(chǎn)能為每小時(shí)80片。

   圖7.3 上海微電子裝各有限公司正在開發(fā)的sSA600/⒛型號(hào)193nm步進(jìn)-掃描式光刻機(jī)