光學(xué)鄰近效應(yīng)修正指的是在掩膜版L對(duì)于由衍射導(dǎo)致的曝光線(xiàn)寬偏差進(jìn)行修正,這里只做簡(jiǎn)單介紹。光學(xué)鄰近效應(yīng)修正分為基于規(guī)則的修正和基于模型的修正。O27.0-VX3MH-LF基于規(guī)則的修正(Rulc Based Optical Proximity Correction,RBOPC)是指建立一套與圖形周邊情況有關(guān)的規(guī)則,使得在規(guī)則滿(mǎn)是的情況下,按照規(guī)則定義的要求對(duì)圖形進(jìn)行修正。例如,可以有這樣的規(guī)則:當(dāng)100nm的線(xiàn)條的某一邊界距離下一個(gè)圖形的邊界的距離大于等于500nm,此邊界往外移動(dòng)10nm,如圖7,103所示。

   規(guī)則的制定依賴(lài)于對(duì)一組定標(biāo)圖形的精確測(cè)定。一維的定標(biāo)圖形大多是一張線(xiàn)寬與槽寬的矩陣。對(duì)于任意的線(xiàn)寬與槽寬組合,基于對(duì)測(cè)試掩膜版上的定標(biāo)圖形在硅片上光刻膠投影圖形的測(cè)定,并且根據(jù)實(shí)際測(cè)量的尺寸與理想的尺寸之間的差值來(lái)決定修正量的多少。對(duì)于二維的圖形,也可以建立一些定標(biāo)圖形,并且通過(guò)實(shí)驗(yàn)的測(cè)定來(lái)制定出修正量,如表7.6 所示。