正向模型的精確度有賴于大量的試驗(yàn)以及分析
發(fā)布時間:2017/11/1 19:30:41 訪問次數(shù):353
盡管逆光刻有很多優(yōu)點(diǎn),我們也看到,它也有一定的局限性:
(1)它的作用發(fā)揮有賴于精確的正向模型。 O19.66080MHZ-JCO-8-3-B
(2)正向模型的精確度有賴于大量的試驗(yàn)以及分析,模型的精確度極限,或者在什么地方變得不精確,并不是一目了然的,需要不停地發(fā)掘、驗(yàn)證和修訂。
(3)由逆光刻生成的掩膜版圖形可能很復(fù)雜,如圖7,102所示。以至于掩膜版制造和檢測發(fā)生困難。不過最近的發(fā)展使得簡化逐漸成為
現(xiàn)實(shí)。
盡管逆光刻有很多優(yōu)點(diǎn),我們也看到,它也有一定的局限性:
(1)它的作用發(fā)揮有賴于精確的正向模型。 O19.66080MHZ-JCO-8-3-B
(2)正向模型的精確度有賴于大量的試驗(yàn)以及分析,模型的精確度極限,或者在什么地方變得不精確,并不是一目了然的,需要不停地發(fā)掘、驗(yàn)證和修訂。
(3)由逆光刻生成的掩膜版圖形可能很復(fù)雜,如圖7,102所示。以至于掩膜版制造和檢測發(fā)生困難。不過最近的發(fā)展使得簡化逐漸成為
現(xiàn)實(shí)。
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