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殘留原子、離子污染物的去除(SC2):

發(fā)布時(shí)間:2017/11/6 21:20:24 訪問次數(shù):1253

   殘留原子、離子污染物的去除(SC2):SC1可去除一些重金屬和貴金屬,但另一些不溶于堿性溶液的金屬(如Al、Fe、Ca等),就該用酸性的SC2溶解去除。 S912XDT256F1MAG和SC1一樣,起初濃度和溫度較高;現(xiàn)今使用濃度為HCl:H202:H20比例為1叫:50或1:1:100及其他,溫度35℃至室溫。

   據(jù)報(bào)道,還有一種被叫做“IMEGClean”的清洗方法,可替代RCA。它是把高濃度的臭氧注入DI水中,形成03水,然后結(jié)合其他的化學(xué)品,組合成一個(gè)清洗污染物的方法。例如,03溶人H2⒏)l可替代SPM,去除有機(jī)物。接著用優(yōu)化稀釋的HF/HCl去除第一步的化學(xué)氧化膜。最后03水氧化去除輕的有機(jī)物、金屬和顆粒;這一步也有報(bào)道川HCl/().,町

達(dá)到同樣的效果;(),氧化有機(jī)物的同時(shí),也氧化品片硅,形成薄層氧化膜保護(hù)硅ⅡⅡ。


   殘留原子、離子污染物的去除(SC2):SC1可去除一些重金屬和貴金屬,但另一些不溶于堿性溶液的金屬(如Al、Fe、Ca等),就該用酸性的SC2溶解去除。 S912XDT256F1MAG和SC1一樣,起初濃度和溫度較高;現(xiàn)今使用濃度為HCl:H202:H20比例為1叫:50或1:1:100及其他,溫度35℃至室溫。

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達(dá)到同樣的效果;(),氧化有機(jī)物的同時(shí),也氧化品片硅,形成薄層氧化膜保護(hù)硅ⅡⅡ。


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11-6殘留原子、離子污染物的去除(SC2):
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S912XDT256F1MAG
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