細檢漏(氦質譜檢漏法)

   質譜檢漏儀是通過質譜分析的方法來實現(xiàn)檢漏的一種儀器,所謂“質譜分析”,是將H5DU5162ETR-E3C示蹤氣體(氦質譜儀就是用氦氣作為示蹤氣體)分子轉換成離子,并通過電磁的“離子光學系統(tǒng)”將離子按電荷與質量之比分離,然后對離子流進行測量。由于離子流的大小與質譜分析室示蹤氣體的濃度成比例,同時示蹤氣體的濃度叉與通過被檢樣品泄漏進入質譜分析室的示蹤氣體流量成正比。因此,通過測量離子流即可知道被檢樣品泄漏的大小。

   首先將試驗樣品置于加壓容器中,利用輔助泵進行真空抽氣,達到規(guī)定的真空度后再充入具有一定壓強的氦氣,如果試驗樣品確有細微漏孔,則氦氣即由此而進入被檢樣品內部,到達規(guī)定的加壓時間后,從壓力罐中取出樣品,將經充氦的試驗樣品置于質譜儀的真空中,由細微漏道逸出的氦氣就進入真空系統(tǒng)。由于依靠分子泵和機械泵所構成的抽氣裝置保持了系統(tǒng)的高度真空(⑷1mPa),這樣進入真空系統(tǒng)的氦氣很容易擴散到質譜分析室內。如果集成電路封裝結構所存在的細微漏孔較大,則進入質譜分析室的氦氣分子就多,反之則少。

   示蹤氣體細檢漏試驗設備由氦質譜檢漏儀和充氦容器所構成。氦質譜檢漏儀應經過適當?shù)?/span>預運行和校準;使其靈敏度達到足以讀出小于或等于10、a・cm3/s的漏氣速率。用于測量漏氣速率的檢測密封罐體積應根據(jù)實際情況保持最小尺寸,因為該體積過大將對靈敏度極限值產生不利的影響。每次試驗前必須對氦質譜檢漏儀器進行校準。如圖⒋10所示為某型氦質譜檢漏儀。