20nm垂直MRAM磁穿隧接面晶圓上生產(chǎn)出更多FLASH顆粒
發(fā)布時間:2022/2/2 20:14:09 訪問次數(shù):203
MRAM已經(jīng)在通信、軍事、數(shù)碼產(chǎn)品上有了一定的應用。2008年,日本的衛(wèi)星系統(tǒng)就宣布使用了飛思卡爾的MRAM來替換其所有的閃存元件。
2018年的國際電子器件會議(IEDM)上,英特爾展示了嵌入式MRAM在邏輯芯片制造中的新技術。
嵌入式 MRAM可在200℃下保持10年的記憶期,稱之為“首款基于FinFET的MRAM技術”。2019年,英特爾宣布其MRAM已經(jīng)做好了量產(chǎn)準備,使用22nm FFL FinFET技藝,同年Everspin也宣布旗下的1G MRAM存儲芯片進入試生產(chǎn)階段。
12bit ECC具有顯著的優(yōu)勢:
整機成本比市面其他方案節(jié)省3美金以上;
容錯能力強,F(xiàn)LASH的使用壽命更長;同時,需要12bit ECC技術支持的FLASH,均采用3x納米的工藝研發(fā)而成,在同樣面積的晶圓上能生產(chǎn)出更多的FLASH顆粒,所以每顆FLASH的成本相對降低。
兼容8bit ECC的功能;
替代更方便。
這兩方面大數(shù)據(jù)信息流最終通過互聯(lián)網(wǎng)在智能設備之間傳遞,由智能設備進行分析、判斷、決策、調(diào)整、控制并繼續(xù)開展智能生產(chǎn),生產(chǎn)出高品質(zhì)的個性化產(chǎn)品。
也是在這一年,總部位于波士頓的公司Allied Minds正式成立了STT公司,以這項技術命名,該公司開始營運。2016年9月,STT開發(fā)出OST-MRAM技術并在加利福尼亞州總部的晶圓廠制作出20nm的垂直 MRAM 磁穿隧接面(pMTJ)。
這兩款DSP不足340μW待機功耗與不足0.3mW/MHz的工作功耗,可將電池使用壽命延長超過40%。
(素材來源:轉(zhuǎn)載自網(wǎng)絡,如涉版權請聯(lián)系刪除,特別感謝)
MRAM已經(jīng)在通信、軍事、數(shù)碼產(chǎn)品上有了一定的應用。2008年,日本的衛(wèi)星系統(tǒng)就宣布使用了飛思卡爾的MRAM來替換其所有的閃存元件。
2018年的國際電子器件會議(IEDM)上,英特爾展示了嵌入式MRAM在邏輯芯片制造中的新技術。
嵌入式 MRAM可在200℃下保持10年的記憶期,稱之為“首款基于FinFET的MRAM技術”。2019年,英特爾宣布其MRAM已經(jīng)做好了量產(chǎn)準備,使用22nm FFL FinFET技藝,同年Everspin也宣布旗下的1G MRAM存儲芯片進入試生產(chǎn)階段。
12bit ECC具有顯著的優(yōu)勢:
整機成本比市面其他方案節(jié)省3美金以上;
容錯能力強,F(xiàn)LASH的使用壽命更長;同時,需要12bit ECC技術支持的FLASH,均采用3x納米的工藝研發(fā)而成,在同樣面積的晶圓上能生產(chǎn)出更多的FLASH顆粒,所以每顆FLASH的成本相對降低。
兼容8bit ECC的功能;
替代更方便。
這兩方面大數(shù)據(jù)信息流最終通過互聯(lián)網(wǎng)在智能設備之間傳遞,由智能設備進行分析、判斷、決策、調(diào)整、控制并繼續(xù)開展智能生產(chǎn),生產(chǎn)出高品質(zhì)的個性化產(chǎn)品。
也是在這一年,總部位于波士頓的公司Allied Minds正式成立了STT公司,以這項技術命名,該公司開始營運。2016年9月,STT開發(fā)出OST-MRAM技術并在加利福尼亞州總部的晶圓廠制作出20nm的垂直 MRAM 磁穿隧接面(pMTJ)。
這兩款DSP不足340μW待機功耗與不足0.3mW/MHz的工作功耗,可將電池使用壽命延長超過40%。
(素材來源:轉(zhuǎn)載自網(wǎng)絡,如涉版權請聯(lián)系刪除,特別感謝)