小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機生產(chǎn),中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機,掌握了90%以上的高端光刻機市場份額。最新的兩代高端光刻機領(lǐng)域，即浸入式(Immersion)和極紫外線式(EUV)光刻機，全部由阿斯麥掌握核心技術(shù)。

光刻機在芯片制造中的重要性不言而喻,而在遭到斷供威脅之后,著手研究新型光刻機來應對ASML的斷供威脅,EUV光刻機是如今先進制程芯片制造中必不可少的設(shè)備之一.

為了制定下一代光刻機標準，由美國能源部牽頭聯(lián)合了IBM、英特爾、AMD、摩托羅拉等科技企業(yè)以及勞倫斯利弗莫爾、桑迪亞和勞倫斯伯克利三大實驗室，最終得以在極紫外光技術(shù)取得突破，而ASML則成為EUV光刻機的具體制造者。

螺旋傳動的特點 可以把回轉(zhuǎn)運動變?yōu)橹本�運動,而且結(jié)構(gòu)簡單,傳動平穩(wěn),噪聲小;

螺桿上的導程可以做得很小,可獲得很大的減速比,可以做成微調(diào)機構(gòu),如千分尺中的測桿螺旋機構(gòu).

可以用一個較小的扭矩產(chǎn)生一個較大的推力,如螺旋干斤頂;選擇合適的導程角γ(γ≤6°),可以使螺旋機構(gòu)具有自鎖性,如銑床升降臺的升降螺旋不會因自重而滑下。

性能方面，除了300W大功率的亮點外，這款無線充電模塊還具備靈敏的FOD異物檢測和NFC功能，可以保證方案在量產(chǎn)時的安全性。

根據(jù)我們簡單測試的結(jié)果，由于無線充電模塊的空載功耗在5-6W左右，在負載電流比較小時效率會略低；負載電流越大效率越高，實測150W負載效率可達90%左右。