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兩光柵刻線彼此錯開處由于相互擋光作用而成暗帶形成亮帶

發(fā)布時間:2023/4/30 22:08:38 訪問次數(shù):112

由光柵的大量刻線形成,對光柵刻線的刻劃誤差有平均作用,從而能在很大程度上消除光柵刻線不均勻造成的誤差。

當兩光柵沿柵線的垂直方向做相對移動時,莫爾條紋沿光柵刻線方向移動;光柵反向移動,莫爾條紋亦反向移動。

莫爾條紋的間距是放大了的光柵柵距,它隨著光柵刻線夾角汐而改變,而e是很小的,所以莫爾條紋間距等于把微小的柵距擴大了古倍即L≈W/sine≈K。

莫爾條紋移過的條紋數(shù)與光柵移過的刻線數(shù)相等。


由此可見,機械位移量將在定尺的感應電動勢中表現(xiàn)出來。檢測定尺中的感應電壓,就可以得出位移的數(shù)字值。

光柵也是位置檢測元件之一。測長用的是長光柵,呈直尺狀,.測轉(zhuǎn)角用的為圖光柵,呈圓盤形。

在刻線的重合處,光從縫隙中透過形成亮帶。兩光柵刻線彼此錯開處,由于相互擋光作用而成暗帶。

這種亮帶和暗帶形成明暗相間的條紋,稱為莫爾條紋。因條紋方向與刻線方向近似垂直,故又稱橫向莫爾條紋。

莫爾條紋有下列特征:

等柵距形成的莫爾條紋(e≠0)

X―光柵移動方向 y一莫爾條紋移動方向

黑白透射光柵

傳感器,1一光源 2―聚光鏡 3一主光柵 4一指示光柵 5一光電元件


定尺固定,滑尺可以移動。當滑尺的正、余弦繞組分別通以一定的正、余弦電壓激勵時,定尺繞組中就會有感應電動勢產(chǎn)生,其值是定尺、滑尺相對位置的函數(shù)。


由光柵的大量刻線形成,對光柵刻線的刻劃誤差有平均作用,從而能在很大程度上消除光柵刻線不均勻造成的誤差。

當兩光柵沿柵線的垂直方向做相對移動時,莫爾條紋沿光柵刻線方向移動;光柵反向移動,莫爾條紋亦反向移動。

莫爾條紋的間距是放大了的光柵柵距,它隨著光柵刻線夾角汐而改變,而e是很小的,所以莫爾條紋間距等于把微小的柵距擴大了古倍即L≈W/sine≈K。

莫爾條紋移過的條紋數(shù)與光柵移過的刻線數(shù)相等。


由此可見,機械位移量將在定尺的感應電動勢中表現(xiàn)出來。檢測定尺中的感應電壓,就可以得出位移的數(shù)字值。

光柵也是位置檢測元件之一。測長用的是長光柵,呈直尺狀,.測轉(zhuǎn)角用的為圖光柵,呈圓盤形。

在刻線的重合處,光從縫隙中透過形成亮帶。兩光柵刻線彼此錯開處,由于相互擋光作用而成暗帶。

這種亮帶和暗帶形成明暗相間的條紋,稱為莫爾條紋。因條紋方向與刻線方向近似垂直,故又稱橫向莫爾條紋。

莫爾條紋有下列特征:

等柵距形成的莫爾條紋(e≠0)

X―光柵移動方向 y一莫爾條紋移動方向

黑白透射光柵

傳感器,1一光源 2―聚光鏡 3一主光柵 4一指示光柵 5一光電元件


定尺固定,滑尺可以移動。當滑尺的正、余弦繞組分別通以一定的正、余弦電壓激勵時,定尺繞組中就會有感應電動勢產(chǎn)生,其值是定尺、滑尺相對位置的函數(shù)。


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