晶圓表面的顆粒大小町以從非常大(50 ym)變化到小于1斗m。大的%啦可用傳統(tǒng)的化學(xué)浸泡池和相應(yīng)的清水沖洗除去。，較小的顆粒被幾種很強(qiáng)的力量吸附在表面，RT9166A-12GX所以很難除去，一種是范德華( Van der Waals)力，這是一種在一個(gè)原子的電子和另一個(gè)原子的核之間形成的，很強(qiáng)的原子間吸引力。盡量減小這種靜電引力的技術(shù)是控制一種叫做z電勢( zetaF)0tential)的變鼉。z電勢是在顆粒周圍的帶電區(qū)與清洗液中帶相反電荷的帶電區(qū)域形成平衡的平衡電勢，這個(gè)電勢隨著速度（當(dāng)晶圓在清洗池中移動(dòng)時(shí)清洗液的相對移動(dòng)速度），溶液的pH值和溶液中的電解質(zhì)的濃度變化而變化的。同時(shí)，它還將受到清洗液中的添加劑，如表面活性劑的影響，，我們可以通過設(shè)定這些條件來得到一個(gè)與晶圓表面相同電性的較大電勢，從而產(chǎn)生排斥作用使得顆粒從晶圓表面脫落而保留在溶液中。

   表面張力引力是另外一個(gè)問題。它產(chǎn)生了顆粒與表面之間形成的液體橋（見圖5. 25）。表面張力可以比范穗華引力大32。表面活性劑或一些機(jī)械的輔助，例如兆頻超聲波，被用來去除表面的這嶁顆粒。

   清洗T藝多為…系列的步驟，用來將大小不一的顆粒同時(shí)除去。最簡單的顆粒去除工藝是用位于清洗臺(tái)的手持氮?dú)鈽寚姵龅�，�?jīng)過過濾的高壓氮?dú)獯稻�圓的表面。在存在小顆粒問題的制造區(qū)域，氮?dú)鈽屔吓渲昧穗x子化器，從而除去氮?dú)饬髦械撵o電，而使晶圓表面呈中性、

   氮?dú)鈽屖鞘殖值�，操作員在使用它的時(shí)候必須注意不要污染操作臺(tái)上的其他晶片或操作臺(tái)本身。通常在潔凈等級為1/10的凈化間中，不使用噴槍。