晶圓在涂完底膠之后會停在針孔吸盤上面，這就為下一步涂膠工藝準(zhǔn)備好了。EL5106IWZ-T7幾立方厘米( CII13)的光刻膠被堆積在晶圓的中心（見圖8. 27）并且允許被涂成一個小的水洼，這個小的水洼被繼續(xù)涂開直到光刻膠覆蓋_『晶圓的大部分e水洼的大小是一個工藝參數(shù)，它是由晶圓的大小和所用光刻膠的類型決定的。所涂光刻膠總量的大小是非常關(guān)鍵的。如果量少了會導(dǎo)致晶圓表面涂膠不均，如果量大了會導(dǎo)致晶圓邊緣光刻膠的堆積或光刻膠流到晶圓背面（見圖8. 28）。

   當(dāng)水洼達(dá)到規(guī)定的直徑，吸盤會很快地加速到一個事先設(shè)定好的速度。在加速過程中，離心力會使光刻膠向晶圓邊緣擴散并甩走多余的光刻膠，只把平整均勻的光刻膠薄膜留在晶圓表面。在光刻膠被分散開之后，高速旋轉(zhuǎn)還會維持一段時間以便使光刻膠干燥。

   光刻膠膜的最終厚度是由光刻膠黏度、旋轉(zhuǎn)速度、表面張力和光刻膠的干燥性來決定的。在實踐中，表面張力和干燥性是光刻膠的自身性質(zhì)，黏度和旋轉(zhuǎn)速度之間的關(guān)系是由光刻膠供應(yīng)商所提供的曲線來決定的，或者是根據(jù)特定的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)而建立的。圖8. 29歷示是典型厚度與旋轉(zhuǎn)速度的關(guān)系。

   盡管旋轉(zhuǎn)速度被指定來控制光刻膠膜厚，但是最終膜厚是由實際的旋轉(zhuǎn)加速度來建立的。涂膠器的加速屬性必須被詳細(xì)說明，而且它必須被定期維護以保證它在旋轉(zhuǎn)工藝中保持恒定。