涂膠工藝的目的就是在晶圓表面建立薄的、EL4583CSZ均勻的并且沒有缺陷的光刻膠膜。

   這些好的質(zhì)量說起來容易，卻需要用精良設備和嚴格的工藝控制才能達到。一般來說，光刻膠膜厚從0.5~1.5斗m不等，而且它的均勻性必須要達到只有±0.01 ht,m(100 A)的誤差。

   普通的光刻膠涂膠方法有3種方法：刷法、滾轉方法和浸泡法。但是這3種方法中沒有一種能夠達到光刻膠工藝所要求的質(zhì)量標準。在涂底膠的那一節(jié)中，我們簡單地介紹旋轉涂膠方法，這也就是我們普遍應用的涂膠方法。涂膠器有手動式、半自動式和全自動式。自動化程度不同，所應用的系統(tǒng)也會不同。在下文我們會有所介紹。然而，每個系統(tǒng)光刻膠膜的淀積確實是共同的。

   涂膠工藝被設計成防止或是降低晶圓外邊緣部分光刻膠的堆起，也稱為邊緣珠子( edgebead)，這神堆起會在曝光和刻蝕過程中造成圖形的畸變。