大部分生產(chǎn)用分步式光刻機具有G線或I線能力的紫外曝光光源。若想得到更小的幾何尺寸，KS57C0302-31光刻機則須選用深紫外范圍的激光光源J1。為在曝光過程中保持準確的圖形尺寸，溫度和濕度必須加以嚴格控制。大部分步進式光刻機被放在封閉的反應(yīng)室內(nèi)，這種環(huán)境不僅控制上述重要參數(shù)，而且還可保持晶圓清潔。

   步進掃描光刻機：通常對更大芯片尺寸的需求推動了具有更大視場鏡頭的系統(tǒng)。增大視場使得對準和曝光時間縮短。然而，越大的鏡頭就越昂貴。一種可替代的方法是，用一個帶有較小鏡頭、且能夠以掃描小區(qū)域來覆蓋所需區(qū)域的步進式光刻機（見圖8. 50）。

   其他曝光源和先進的對準和曝光設(shè)備在第10章中探討。

   圖8. 50步進式和掃描式光刻機的比較。(a)對于9 CⅡ12的圖形，步進重復(fù)式光刻機需要42.4 mm

   直徑的透鏡區(qū)域；(b)同樣的圖形，步進掃描式光刻機只需23.7 mm直徑的透鏡區(qū)域